La nanotechnologie pour améliorer la loi de Moore
Dans les secteurs tels que les appareils mobiles, les communications à haut débit et les soins de santé, les marchés modernes exigent des produits de plus en plus petits, moins chers et moins énergivores. Pour répondre à la demande d'innovation, l'industrie doit évoluer et passer de la microtechnologie à la nanotechnologie. Mais pour cela, de nouveaux chercheurs dotés des compétences et des connaissances propres à cette technologie sont nécessaires. Comme toute autre nanotechnologie, la lithographie optique est une méthode de gravure exploitant la loi de Moore: chaque année, les plus petits éléments des circuits intégrés se réduisent. Regroupant quatre représentants de l'industriel, cinq intervenants universitaires et trois instituts de recherche, le projet SPAM (Surface physics for advanced manufacturing), financé par l'UE, vise à mettre en place une technologie à même de graver de minuscules semi-conducteurs (32 nm) avec une extrême précision. L'équipe a tenté d'améliorer les connaissances de la physique des surfaces en vue d'une production de pointe. Sur la base des travaux sur la stabilité/instabilité de la ligne de contact et la propreté superficielle, les chercheurs visaient à contrôler les irrégularités des surfaces et la métrologie des surfaces structurées au cours de la deuxième phase du projet. Un contrôle rigoureux de la rugosité et de l'énergie superficielle a été nécessaire pour éviter l'adhérence par capillarité. À cette fin, les chercheurs ont tenté de modifier les surfaces par faisceau ionique, une méthode permettant de créer des nanostructures rugueuses et périodiques. Les surfaces ainsi modifiées ont autorisé la diminution de l'énergie superficielle. La résistance à l'usure a été testée pour les deux techniques. Les scientifiques sont parvenus à tester de nouvelles méthodes de mesure des valeurs stratégiques, dont la rugosité périmétrique des différents motifs. Un nouveau concept basé sur l'acquisition séquentielle des données de diffraction a permis la reconstruction de phase et un relevé cohérent. Les chercheurs ont constaté une meilleure précision dans la reconstruction du profil des réseaux de diffraction. Les résultats en faveur de la lithographie et de la métrologie sont nécessaires pour créer un programme technologique destiné aux semi-conducteurs. En favorisant les avancées dans le secteur des circuits intégrés, le projet s'inscrit dans la continuité de la loi de Moore.
Mots‑clés
Nanotechnologie, loi de Moore, circuits intégrés, lithographie optique, physique des surfaces
