Pubblicazioni
Autori:
Santosh K. Pagire, Chao Shu, Dominik Reich, Adam Noble, Varinder K. Aggarwal
Pubblicato in:
Journal of the American Chemical Society, Numero weekly, 2023, Pagina/e 18649, ISSN 0002-7863
Editore:
American Chemical Society
DOI:
10.1021/jacs.3c06524
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