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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
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Resist materials for transition to green processing in semiconductor industry

Descripción del proyecto

Materiales fotorresistentes ecológicos para la fabricación de semiconductores

El proyecto RESIN GREEN, financiado con fondos europeos, pretende facilitar la transición ecológica en la fabricación de semiconductores reduciendo el uso de disolventes orgánicos peligrosos en los procesos litográficos. Con este fin, explorará el uso de materiales renovables derivados de la biomasa y nuevas plataformas fotorresistentes como sustitutos de las resinas litográficas convencionales para desarrollar nuevos materiales compatibles con disolventes ecológicos como el agua, las soluciones base acuosas diluidas y los disolventes orgánicos ecológicos. En concreto, el proyecto pretende eliminar o reducir significativamente el uso de disolventes orgánicos tóxicos y soluciones alcalinas en las fases de centrifugado y desarrollo de la fabricación de microchips. También investigará la litografía de haz electrónico para evaluar el potencial de resolución de los materiales de resistencia propuestos.

Objetivo

Alternative (to mainstream Silicon CMOS technologies) semiconductor manufacturing process technologies able to sustain in the mid- and long-terms the fast pace evolution of device performance, miniaturisation and cost, while reducing environmental footprint. RESIN GREEN proposes the development of new resist material platforms that can be processed under conditions offering clear advantages regarding reduction of environmental footprint. In particular, new resist chemistries targeting to materials than can be processed (deposited and developed) by using environmentally friendly solvents such as water, very dilute aqueous base solutions, or green organic solvents.
In this context we will develop new resist materials in order to eliminate the use of organic solvents and aqueous alkaline solutions that are currently used in the lithographic process at semiconductor manufacturing industry. The lithographical process steps that demand the major amounts of solvents are the spin coating solution of the photoresist as well as the development process. We target to replace the standard organic solvents which are used in spin coating and the highly alkaline TMAH solutions used in development with water. The use of greener organic solvents and very dilute basic developers will only be considered if necessary for meeting high performance requirements.
Our target is to investigate bio-source materials and new photoresist platforms suitable for exposure at 193 nm, 248 nm or EUV and achieve significant breakthroughs by designing a complete process, using renewable resources and neither organic solvent nor hazardous chemicals. In addition, e-beam lithography will be considered, especially for evaluating the high resolution potential of the proposed resist materials.

Ámbito científico (EuroSciVoc)

Palabras clave

Programa(s)

Tema(s)

Régimen de financiación

HORIZON-RIA - HORIZON Research and Innovation Actions

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Convocatoria de propuestas

(se abrirá en una nueva ventana) HORIZON-CL4-2023-DIGITAL-EMERGING-01-CNECT

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Coordinador

"NATIONAL CENTER FOR SCIENTIFIC RESEARCH ""DEMOKRITOS"""
Aportación neta de la UEn
€ 765 000,00
Dirección
END OF PATRIARCHOU GRIGORIOU E AND 27 NEAPOLEOS STREET
153 41 AGIA PARASKEVI
Grecia
Región
Αττική Aττική Βόρειος Τομέας Αθηνών
Tipo de actividad
Research Organisations
Enlaces
Coste total
€ 765 000,00

Participantes (7)

Socios (1)