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Resist materials for transition to green processing in semiconductor industry

Descrizione del progetto

Materiali fotoresistenti ecologici per la produzione di semiconduttori

Il progetto RESIN GREEN, finanziato dall’UE, mira a facilitare la transizione ecologica nella produzione di semiconduttori riducendo l’uso di solventi organici pericolosi nei processi litografici. A tal fine, esplorerà l’uso di materiali rinnovabili derivati dalla biomassa e nuove piattaforme fotoresistenti come sostituti delle resine litografiche convenzionali per sviluppare materiali innovativi compatibili con solventi ecologici quali acqua, soluzioni acquose diluite e solventi organici ecologici. In particolare, il progetto mira a eliminare o ridurre significativamente l’uso di solventi organici tossici e soluzioni alcaline nelle fasi di rivestimento a rotazione e sviluppo della produzione di microchip. Sarà inoltre studiata la litografia a fascio elettronico per valutare il potenziale di risoluzione dei materiali resistenti proposti.

Obiettivo

Alternative (to mainstream Silicon CMOS technologies) semiconductor manufacturing process technologies able to sustain in the mid- and long-terms the fast pace evolution of device performance, miniaturisation and cost, while reducing environmental footprint. RESIN GREEN proposes the development of new resist material platforms that can be processed under conditions offering clear advantages regarding reduction of environmental footprint. In particular, new resist chemistries targeting to materials than can be processed (deposited and developed) by using environmentally friendly solvents such as water, very dilute aqueous base solutions, or green organic solvents.
In this context we will develop new resist materials in order to eliminate the use of organic solvents and aqueous alkaline solutions that are currently used in the lithographic process at semiconductor manufacturing industry. The lithographical process steps that demand the major amounts of solvents are the spin coating solution of the photoresist as well as the development process. We target to replace the standard organic solvents which are used in spin coating and the highly alkaline TMAH solutions used in development with water. The use of greener organic solvents and very dilute basic developers will only be considered if necessary for meeting high performance requirements.
Our target is to investigate bio-source materials and new photoresist platforms suitable for exposure at 193 nm, 248 nm or EUV and achieve significant breakthroughs by designing a complete process, using renewable resources and neither organic solvent nor hazardous chemicals. In addition, e-beam lithography will be considered, especially for evaluating the high resolution potential of the proposed resist materials.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

Parole chiave

Programma(i)

Argomento(i)

Meccanismo di finanziamento

HORIZON-RIA - HORIZON Research and Innovation Actions

Vedi tutti i progetti finanziati nell’ambito di questo schema di finanziamento

Invito a presentare proposte

(si apre in una nuova finestra) HORIZON-CL4-2023-DIGITAL-EMERGING-01-CNECT

Vedi tutti i progetti finanziati nell’ambito del bando

Coordinatore

"NATIONAL CENTER FOR SCIENTIFIC RESEARCH ""DEMOKRITOS"""
Contributo netto dell'UE
€ 765 000,00
Indirizzo
END OF PATRIARCHOU GRIGORIOU E AND 27 NEAPOLEOS STREET
153 41 AGIA PARASKEVI
Grecia
Regione
Αττική Aττική Βόρειος Τομέας Αθηνών
Tipo di attività
Research Organisations
Collegamenti
Costo totale
€ 765 000,00

Partecipanti (7)

Partner (1)