Atomic layer deposition of two-dimensional transition metal dichalcogenide nanolayers

Informations projet

ALDof 2DTMDs

N° de convention de subvention: 648787

DOI 10.3030/648787

Projet clôturé

Date de signature de la CE 21 Mai 2015

Date de début 1 Août 2015

Date de fin 31 Decembre 2020

Financé au titre de

• EXCELLENT SCIENCE - European Research Council (ERC)

Coût total € 1 968 708,75

Contribution de l’UE € 1 968 708,75

Coordonné par

TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN
Netherlands

Publications

Peer reviewed articles (16)

Atomic Layer Deposition of Al-Doped MoS 2 : Synthesizing a p-type 2D Semiconductor with Tunable Carrier Density

Auteurs: Vincent Vandalon, Marcel A. Verheijen, Wilhelmus M. M. Kessels, Ageeth A. Bol
Publié dans: ACS Applied Nano Materials, Numéro 3/10, 2020, Page(s) 10200-10208, ISSN 2574-0970
Éditeur: ACS
DOI: 10.1021/acsanm.0c02167

Cu Electrodeposition on Nanostructured MoS 2 and WS 2 and Implications for HER Active Site Determination

Auteurs: Longfei Wu, Nelson Y. Dzade, Ning Chen, Bas van Dijk, Shashank Balasubramanyam, Akhil Sharma, Lu Gao, Dennis G. H. Hetterscheid, Emiel J. M. Hensen, Ageeth A. Bol, Nora H. De Leeuw, Jan P. Hofmann
Publié dans: Journal of The Electrochemical Society, Numéro 167/11, 2020, Page(s) 116517, ISSN 1945-7111
Éditeur: ECS
DOI: 10.1149/1945-7111/aba5d8

Conformal Growth of Nanometer-Thick Transition Metal Dichalcogenide TiS x -NbS x Heterostructures over 3D Substrates by Atomic Layer Deposition: Implications for Device Fabrication

Auteurs: Saravana Balaji Basuvalingam, Matthew A. Bloodgood, Marcel A. Verheijen, Wilhelmus M. M. Kessels, Ageeth A. Bol
Publié dans: ACS Applied Nano Materials, Numéro 4/1, 2021, Page(s) 514-521, ISSN 2574-0970
Éditeur: ACS
DOI: 10.1021/acsanm.0c02820

Synthesis of edge-enriched WS 2 on high surface area WS 2 framework by atomic layer deposition for electrocatalytic hydrogen evolution reaction

Auteurs: Shashank Balasubramanyam, Matthew A. Bloodgood, Yue Zhang, Marcel A. Verheijen, Wilhelmus M. M. Kessels, Jan P. Hofmann, Ageeth A. Bol
Publié dans: Journal of Vacuum Science & Technology A, Numéro 38/6, 2020, Page(s) 062201, ISSN 0734-2101
Éditeur: American Institute of Physics
DOI: 10.1116/6.0000563

Plasma-enhanced atomic layer deposition of tungsten oxide thin films using ( t BuN) 2 (Me 2 N) 2 W and O 2 plasma

Auteurs: Shashank Balasubramanyam, Akhil Sharma, Vincent Vandalon, Harm C. M. Knoops, Wilhelmus M. M. (Erwin) Kessels, Ageeth A. Bol
Publié dans: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Numéro 36/1, 2018, Page(s) 01B103, ISSN 0734-2101
Éditeur: American Institute of Physics
DOI: 10.1116/1.4986202

Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of 2-D MoS 2 : large area, thickness control and tuneable morphology

Auteurs: Akhil Sharma, Marcel A. Verheijen, Longfei Wu, Saurabh Karwal, Vincent Vandalon, Harm C. M. Knoops, Ravi S. Sundaram, Jan P. Hofmann, W. M. M. (Erwin) Kessels, Ageeth A. Bol
Publié dans: Nanoscale, Numéro 10/18, 2018, Page(s) 8615-8627, ISSN 2040-3364
Éditeur: Royal Society of Chemistry
DOI: 10.1039/c8nr02339e

Comparison of thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition of niobium oxide thin films

Auteurs: Saravana Balaji Basuvalingam, Bart Macco, Harm C. M. Knoops, Jimmy Melskens, Wilhelmus M. M. (Erwin) Kessels, Ageeth A. Bol
Publié dans: Journal of Vacuum Science & Technology A, Numéro 36/4, 2018, Page(s) 041503, ISSN 0734-2101
Éditeur: American Institute of Physics
DOI: 10.1116/1.5034097

Initial stage of atomic layer deposition of 2D-MoS 2 on a SiO 2 surface: a DFT study

Auteurs: M. Shirazi, W. M. M. Kessels, A. A. Bol
Publié dans: Physical Chemistry Chemical Physics, Numéro 20/24, 2018, Page(s) 16861-16875, ISSN 1463-9076
Éditeur: Royal Society of Chemistry
DOI: 10.1039/c8cp00210j

Anisotropic infrared light emission from quasi-1D layered TiS 3

Auteurs: Ali Khatibi, Rasmus H Godiksen, Saravana Balaji Basuvalingam, Daniele Pellegrino, Ageeth A Bol, Babak Shokri, Alberto G Curto
Publié dans: 2D Materials, Numéro 7/1, 2020, Page(s) 015022, ISSN 2053-1583
Éditeur: IOP
DOI: 10.1088/2053-1583/ab57ef

Large area, patterned growth of 2D MoS 2 and lateral MoS 2 –WS 2 heterostructures for nano- and opto-electronic applications

Auteurs: Akhil Sharma, Reyhaneh Mahlouji, Longfei Wu, Marcel A Verheijen, Vincent Vandalon, Shashank Balasubramanyam, Jan P Hofmann, W M M (Erwin) Kessels, Ageeth A Bol
Publié dans: Nanotechnology, Numéro 31/25, 2020, Page(s) 255603, ISSN 0957-4484
Éditeur: Institute of Physics Publishing
DOI: 10.1088/1361-6528/ab7593

Probing the Origin and Suppression of Vertically Oriented Nanostructures of 2D WS 2 Layers

Auteurs: Shashank Balasubramanyam, Matthew A. Bloodgood, Mark van Ommeren, Tahsin Faraz, Vincent Vandalon, Wilhelmus M. M. Kessels, Marcel A. Verheijen, Ageeth A. Bol
Publié dans: ACS Applied Materials & Interfaces, Numéro 12/3, 2019, Page(s) 3873-3885, ISSN 1944-8244
Éditeur: American Chemical Society
DOI: 10.1021/acsami.9b19716

Edge-Site Nanoengineering of WS 2 by Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition for Electrocatalytic Hydrogen Evolution

Auteurs: Shashank Balasubramanyam, Mahdi Shirazi, Matthew A. Bloodgood, Longfei Wu, Marcel A. Verheijen, Vincent Vandalon, Wilhelmus M. M. Kessels, Jan P. Hofmann, Ageeth A. Bol
Publié dans: Chemistry of Materials, Numéro 31/14, 2019, Page(s) 5104-5115, ISSN 0897-4756
Éditeur: American Chemical Society
DOI: 10.1021/acs.chemmater.9b01008

Low-Temperature Phase-Controlled Synthesis of Titanium Di- and Tri-sulfide by Atomic Layer Deposition

Auteurs: Saravana Balaji Basuvalingam, Yue Zhang, Matthew A. Bloodgood, Rasmus H. Godiksen, Alberto G. Curto, Jan P. Hofmann, Marcel A. Verheijen, Wilhelmus M. M. Kessels, Ageeth A. Bol
Publié dans: Chemistry of Materials, Numéro 31/22, 2019, Page(s) 9354-9362, ISSN 0897-4756
Éditeur: American Chemical Society
DOI: 10.1021/acs.chemmater.9b02895

Polarized Raman spectroscopy to elucidate the texture of synthesized MoS 2

Auteurs: Vincent Vandalon, Akhil Sharma, Alberto Perrotta, Benedikt Schrode, Marcel A. Verheijen, Ageeth A. Bol
Publié dans: Nanoscale, Numéro 11/47, 2019, Page(s) 22860-22870, ISSN 2040-3364
Éditeur: Royal Society of Chemistry
DOI: 10.1039/c9nr08750h

The Origin of High Activity of Amorphous MoS 2 in the Hydrogen Evolution Reaction

Auteurs: Longfei Wu, Alessandro Longo, Nelson Y. Dzade, Akhil Sharma, Marco M. R. M. Hendrix, Ageeth A. Bol, Nora H. Leeuw, Emiel J. M. Hensen, Jan P. Hofmann
Publié dans: ChemSusChem, Numéro 12/19, 2019, Page(s) 4383-4389, ISSN 1864-5631
Éditeur: Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
DOI: 10.1002/cssc.201901811

Strategies to facilitate the formation of free standing MoS 2 nanolayers on SiO 2 surface by atomic layer deposition: A DFT study

Auteurs: M. Shirazi, W. M. M. Kessels, A. A. Bol
Publié dans: APL Materials, Numéro 6/11, 2018, Page(s) 111107, ISSN 2166-532X
Éditeur: AIP
DOI: 10.1063/1.5056213