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NAtuRal instability of semiConductors thIn SOlid films for sensing and photonic applications

Description du projet

Les instabilités des films minces contribuent à la conception de dispositifs photoniques et de détection flexibles

Le démouillage à l’état solide décrit le processus au cours duquel un film mince commence à se désagréger en gouttelettes distinctes lorsqu’il est chauffé à une température bien en-dessous du point de fusion. Le projet NARCISO, financé par l’UE, prévoit d’exploiter les instabilités du film mince causées par le démouillage à l’état solide (dans le silicium et le germanium), afin de former des modèles complexes et des nano-architectures. Les modèles seront employés comme des plateformes épitaxiales pour cultiver des composés III-V émettant de la lumière, ou en tant que maîtres-modèles pour l’impression d’oxydes de métaux. Les architectures envisagées incluent des structures monocristallines lisses et des systèmes hyper-uniformes désordonnés. Les structures seront optimisées pour une utilisation dans des dispositifs photoniques et de détection.

Objectif

NARCISO “NAtuRal instability of semiConductors thIn SOlid films for sensing and photonic applications” is an interdisciplinary project merging physics, chemistry, material science, fluid dynamics, and photonics with a high potential for applications and industrial scale-up of the relevant results. We propose to exploit the natural instability of thin solid films (solid state dewetting of silicon and germanium, SSD) to form complex patterns and nano-architectures (e.g. monocrystalline atomically-smooth structures, disordered hyperuniform metamaterials) that cannot be implemented with conventional methods. These patters will be used as: i) epitaxial platforms for the growth of light-emitting III-V compounds; ii) hard-masters for nano-imprint lithography of metal oxides (e.g. TiO2, SiO2, ZnO, Al2O3) deposited via sol-gel dip-coating (soft-NIL) and printed on arbitrary substrates, with tunable chemical and physical properties (e.g. composition, porosity, wettability). Methods and structures will be optimized towards their exploitation in two main domains of application: 1) photonic devices (e.g. anti-reflection coatings, colour-filters, random lasers, quantum emitters) and 2) micro-fluidic devices for bio/chemical sensing and water filtering. NARCISO holds the state-of-the-art in SSD and soft-NIL and is already at work in their theoretical comprehension their experimental implementation and practical exploitation. Now NARCISO will combine these techniques bringing them to the leading-edge of micro-and nanostructuring over ultra-large scales and with methods compatible with an industrial scale-up. The presence of the non-academic member Obducat Technologies is a strategic asset of the consortium as it is a major international actor in the nano-imprint lithography domain. It will provide the standard and needs for a realistic formulation of the relevant experimental methods and will demonstrate their implementation in a high-throughput industrial chain of production.

Appel à propositions

H2020-FETOPEN-2018-2020

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Sous appel

H2020-FETOPEN-2018-2019-2020-01

Coordinateur

CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE
Contribution nette de l'UE
€ 595 707,50
Adresse
PIAZZALE ALDO MORO 7
00185 Roma
Italie

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Région
Centro (IT) Lazio Roma
Type d’activité
Research Organisations
Liens
Coût total
€ 596 707,50

Participants (5)