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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
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From the bottom-up: a physico-chemical approach towards 3D nanostructures with atomic-scale control

Descripción del proyecto

Un método novedoso para la fabricación ascendente de componentes nanoelectrónicos

Los métodos ascendentes de nanofabricación emplean fuerzas químicas o físicas a nanoescala para ensamblar componentes básicos en estructuras más grandes. El objetivo del proyecto financiado con fondos europeos BottomUp3D es desarrollar métodos novedosos para la síntesis ascendente de componentes nanoelectrónicos. Para ello, se centrará en la deposición de capas atómicas, una técnica que podría erigirse en el nuevo paradigma de procesamiento ascendente al permitir el control de la síntesis con una precisión a escala atómica. Los nuevos avances en nanoelectrónica y computación cuántica requieren la fabricación de dispositivos nanoestructurados tridimensionales. Por lo tanto, el proyecto irá más allá del estado de la técnica de las metodologías selectivas de deposición de capas atómicas, que procesan sustratos planos, y abordará fabricación de sustratos tridimensionales.

Objetivo

It is a long held dream in nanoscience to synthesize materials from the bottom-up with atomic-level control of structure and properties, yet the fabrication of nanoelectronics still relies completely on top-down processing. Innovative schemes for bottom-up fabrication will be realized in this project by developing approaches for area-selective atomic layer deposition (ALD), a technique that has the potential to become the new paradigm of bottom-up processing because of its atomic-scale control. Current work on area-selective ALD focuses on the processing of planar substrates, while emerging developments in nanoelectronics and quantum computing require the fabrication of 3D nanostructured devices.

Building on recent innovations in my lab, a multidisciplinary approach to area-selective ALD will be employed which combines vapor-phase dosing of inhibitor molecules as a chemical method and the exposure to directional ions from a plasma as a physical method. Fundamental understanding of the mechanisms of chemical inhibition will be acquired, and a new strategy for physical removal of defects will be developed. These methods will be employed on 3D substrates to enable the fabrication of future device structures. By bringing inhibitor molecules and the directional nature of plasma ions together, new flavors of selective processing will be invented including anisotropic or topographically-selective ALD, which opens up a new direction for the field of area-selective ALD.

The synergy between my extensive expertise with in-situ reaction mechanism studies and plasma processing, my leading role in the field of area-selective ALD, and the groups unique facilities for atomic-scale processing, offers a stepping stone to the long-awaited shift from top-down to bottom-up processing. Moreover, this work will allow for the scaling of electronics down to the single-nanometer level.

Ámbito científico (EuroSciVoc)

CORDIS clasifica los proyectos con EuroSciVoc, una taxonomía plurilingüe de ámbitos científicos, mediante un proceso semiautomático basado en técnicas de procesamiento del lenguaje natural. Véas: El vocabulario científico europeo..

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Palabras clave

Palabras clave del proyecto indicadas por el coordinador del proyecto. No confundir con la taxonomía EuroSciVoc (Ámbito científico).

Programa(s)

Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.

Tema(s)

Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.

Régimen de financiación

Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.

ERC-STG - Starting Grant

Ver todos los proyectos financiados en el marco de este régimen de financiación

Convocatoria de propuestas

Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.

(se abrirá en una nueva ventana) ERC-2020-STG

Ver todos los proyectos financiados en el marco de esta convocatoria

Institución de acogida

TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN
Aportación neta de la UEn

Aportación financiera neta de la UE. Es la suma de dinero que recibe el participante, deducida la aportación de la UE a su tercero vinculado. Considera la distribución de la aportación financiera de la UE entre los beneficiarios directos del proyecto y otros tipos de participantes, como los terceros participantes.

€ 1 895 897,00
Dirección
GROENE LOPER 3
5612 AE Eindhoven
Países Bajos

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Región
Zuid-Nederland Noord-Brabant Zuidoost-Noord-Brabant
Tipo de actividad
Higher or Secondary Education Establishments
Enlaces
Coste total

Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.

€ 1 895 897,00

Beneficiarios (1)

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