Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski pl
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS

From the bottom-up: a physico-chemical approach towards 3D nanostructures with atomic-scale control

Opis projektu

Nowatorskie podejście do oddolnego wytwarzania nanoelektroniki

Podejścia oddolne do nanowytwarzania zakłada wykorzystywanie oddziaływań chemicznych lub fizycznych zachodzących w nanoskali do łączenia podstawowych jednostek w większe struktury. Finansowany ze środków UE projekt BottomUp3D przewiduje opracowanie innowacyjnych rozwiązań w zakresie oddolnej syntezy nanoelektroniki. Główny nacisk zostanie położony na selektywne odkładanie warstw atomowych (ALD), technikę, która może stać się nowym paradygmatem przetwarzania oddolnego, ponieważ umożliwia kontrolę syntezy z precyzją w skali atomowej. Dalszy rozwój nanoelektroniki i obliczeń kwantowych wymaga wytworzenia nanostrukturalnych urządzeń 3D. W związku z tym prace w ramach projektu będą wykraczać poza najnowocześniejsze techniki selektywnego ALD, obecnie oferujące pracę na płaskich podłożach, i skupią się na wytwarzaniu podłoży 3D.

Cel

It is a long held dream in nanoscience to synthesize materials from the bottom-up with atomic-level control of structure and properties, yet the fabrication of nanoelectronics still relies completely on top-down processing. Innovative schemes for bottom-up fabrication will be realized in this project by developing approaches for area-selective atomic layer deposition (ALD), a technique that has the potential to become the new paradigm of bottom-up processing because of its atomic-scale control. Current work on area-selective ALD focuses on the processing of planar substrates, while emerging developments in nanoelectronics and quantum computing require the fabrication of 3D nanostructured devices.

Building on recent innovations in my lab, a multidisciplinary approach to area-selective ALD will be employed which combines vapor-phase dosing of inhibitor molecules as a chemical method and the exposure to directional ions from a plasma as a physical method. Fundamental understanding of the mechanisms of chemical inhibition will be acquired, and a new strategy for physical removal of defects will be developed. These methods will be employed on 3D substrates to enable the fabrication of future device structures. By bringing inhibitor molecules and the directional nature of plasma ions together, new flavors of selective processing will be invented including anisotropic or topographically-selective ALD, which opens up a new direction for the field of area-selective ALD.

The synergy between my extensive expertise with in-situ reaction mechanism studies and plasma processing, my leading role in the field of area-selective ALD, and the group’s unique facilities for atomic-scale processing, offers a stepping stone to the long-awaited shift from top-down to bottom-up processing. Moreover, this work will allow for the scaling of electronics down to the single-nanometer level.

Dziedzina nauki (EuroSciVoc)

Słowa kluczowe

Program(-y)

Temat(-y)

System finansowania

ERC-STG - Starting Grant

Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego programu finansowania

Zaproszenie do składania wniosków

(odnośnik otworzy się w nowym oknie) ERC-2020-STG

Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego zaproszenia

Instytucja przyjmująca

TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN
Wkład UE netto
€ 1 895 897,00
Adres
GROENE LOPER 3
5612 AE Eindhoven
Niderlandy
Region
Zuid-Nederland Noord-Brabant Zuidoost-Noord-Brabant
Rodzaj działalności
Higher or Secondary Education Establishments
Linki
Koszt całkowity
€ 1 895 897,00

Beneficjenci (1)