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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
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Contenido archivado el 2024-04-30

New positive tone resist for deep x-ray lithography based on the concept of chemical amplification

Objetivo



Research objectives and content The goal of this project is the development of a new positive tone resist for deep X- ray lithography (DXRL) with high sensitivity. The standard resist material for deep X- ray lithography is poly(methyl methacrylate) (PMMA) which is very suitable, since structures with a high resolution can be obtained. A disadvantage, however, is the low sensitivity of PMMA which demands long irradiation times and leads, therefore, to a relatively expensive process. In order to obtain a resist with high sensitivity, the principle of chemical amplification should be used. This concept has been described for photolithography by Ito and Willson, applied for X-ray lithography by Dammel, and used in the field of DXRL by Schenk for the development of a negative tone resist. In this proposal two concepts for the development of positive tone resist systems for DXRL are described in detail. These resist systems containing two or three components, a polymer matrix, an acid generator, and in one case an additional crosslinker. Upon irradiation the acid generator is releasing a proton which leads to a series of chemical reactions resulting in a increased solubiltiy of the irradiated regions. For both concepts it is absolutely necessary that the different resist components have to be optimized for the DXRL process. Training content (objective, benefit and impact) The postdoctoral work includes the tasks synthesis and characterization of polymers and further resist components and investigation of the acid catalyzed cleavage of the new polymers and polymer networks. Furthermore, the resist films have to be prepared, irradiated and the resulting microstructures have to be analyzed. A successful work in the field of DXRL needs the application of different techniques and equipment (e. g. DSC, rheometry, phase analysis by light microscopy, SEM, AFM,FT-IR,UV-vis). Links with industry / industrial relevance (22) For the DXRL process IMM is manufacturing substrates which are coated with thick resist layers. A spin-off company of IMM should overtake this sphere of activity in the future.

Ámbito científico (EuroSciVoc)

CORDIS clasifica los proyectos con EuroSciVoc, una taxonomía plurilingüe de ámbitos científicos, mediante un proceso semiautomático basado en técnicas de procesamiento del lenguaje natural. Véas: https://op.europa.eu/es/web/eu-vocabularies/euroscivoc.

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Programa(s)

Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.

Tema(s)

Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.

Convocatoria de propuestas

Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.

Datos no disponibles

Régimen de financiación

Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.

RGI - Research grants (individual fellowships)

Coordinador

Institut für Mikrotechnik Mainz GmbH
Aportación de la UE
Sin datos
Dirección
Carl-Zeiss Strasse 18-20
55129 Mainz-Hechtsheim
Alemania

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Coste total

Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.

Sin datos
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