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Contenuto archiviato il 2024-04-30

New positive tone resist for deep x-ray lithography based on the concept of chemical amplification

Obiettivo



Research objectives and content The goal of this project is the development of a new positive tone resist for deep X- ray lithography (DXRL) with high sensitivity. The standard resist material for deep X- ray lithography is poly(methyl methacrylate) (PMMA) which is very suitable, since structures with a high resolution can be obtained. A disadvantage, however, is the low sensitivity of PMMA which demands long irradiation times and leads, therefore, to a relatively expensive process. In order to obtain a resist with high sensitivity, the principle of chemical amplification should be used. This concept has been described for photolithography by Ito and Willson, applied for X-ray lithography by Dammel, and used in the field of DXRL by Schenk for the development of a negative tone resist. In this proposal two concepts for the development of positive tone resist systems for DXRL are described in detail. These resist systems containing two or three components, a polymer matrix, an acid generator, and in one case an additional crosslinker. Upon irradiation the acid generator is releasing a proton which leads to a series of chemical reactions resulting in a increased solubiltiy of the irradiated regions. For both concepts it is absolutely necessary that the different resist components have to be optimized for the DXRL process. Training content (objective, benefit and impact) The postdoctoral work includes the tasks synthesis and characterization of polymers and further resist components and investigation of the acid catalyzed cleavage of the new polymers and polymer networks. Furthermore, the resist films have to be prepared, irradiated and the resulting microstructures have to be analyzed. A successful work in the field of DXRL needs the application of different techniques and equipment (e. g. DSC, rheometry, phase analysis by light microscopy, SEM, AFM,FT-IR,UV-vis). Links with industry / industrial relevance (22) For the DXRL process IMM is manufacturing substrates which are coated with thick resist layers. A spin-off company of IMM should overtake this sphere of activity in the future.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: https://op.europa.eu/it/web/eu-vocabularies/euroscivoc.

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Programma(i)

Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.

Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

Dati non disponibili

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

RGI - Research grants (individual fellowships)

Coordinatore

Institut für Mikrotechnik Mainz GmbH
Contributo UE
Nessun dato
Indirizzo
Carl-Zeiss Strasse 18-20
55129 Mainz-Hechtsheim
Germania

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Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

Nessun dato
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