Ziel
Steag Hamatech's advanced photomask resist system comprising the coater ASR5000 and the aqueous developer ASP5000 shall be assessed under close to production conditions for 100nm node mask making. Mask manufacturing at this lithographic level needs e-beam pattern generators with a high acceleration voltage and chemically amplified resists. The shorter shelf life of these resists and the manufacturing of alternating Phase Shift Masks requires the in-house coating capability of mask shops. Accordingly, the main items of the evaluation are the coating performance of ASR5000, the process performance of both tools for chemically amplified resists and the reliability of the systems including the Costs of Ownership. The consortium of captive and merchant mask houses, blank and equipment suppliers and a research institute with more than 10 years experience in e-beam lithography guarantees a competent evaluation.
Objectives:
The overall objective of the proposed project is the assessment of Steag Hamatech's advanced photomask resist system consisting of the coater ASP5000 and the aqueous developer ASR5000 under close to production conditions. The tools shall be applied to the manufacture of 100nm node production masks including alternating Phase Shift Masks using an e-beam pattern generator with a high acceleration voltage and chemically amplified resists. In addition coater and developer shall be evaluated for the first production of wafer based Next Generation Lithography masks.
Work description:
The near future mask technology needs substantial changes to meet the requirements for the advanced and Next Generation Lithography (NGL). The high resolution capability in mask making can only be achieved using high energy e-beam writer combined with chemically amplified resists (CAR). The shorter shelf life of CAR and the manufacturing of alternating Phase Shift Masks (PSM) require an in-house coating capability for mask shops. The faithful processing of CAR needs special environmental conditions during coating, exposure and development and finally mask houses have to provide a wafer processing capability in the future for manufacturing of Next Generation Lithography Masks. Steag Hamatech's advanced photomask resist system consisting of the coater ASR5000 and the aqueous developer ASP5000 will be evaluated concurrently with e-beam sensitive CAR when applied to the manufacture of 100nm node production masks including alternating PSM and when applied to the first production of wafer based NGL masks.
The tools and the selected resists will be mainly assessed as follows:
1. Evaluation of coating performance of ASR5000 for different resists by measuring of thickness uniformity, thickness repeatability and defect density.
2. Evaluation of process capability of different CARs for 100nm mask production and influence separation of coater, developer and CARs on key parameters like resolution, line edge roughness, resist profile, CD uniformity and repeatability. Furthermore the assessment includes the production of advanced binary masks, PSM and NGL masks with test and real designs.
3. Enhancement of coating process yield and system performance for high equipment reliability and process integrity.
The assessment will be carried out for a period of 14 months including 1 month tools installation.
Milestones:
Steag Hamatech's coater ASR5000 and developer ASP5000 should be proved for coating and processing of 100nm node production masks using e-beam sensitive chemically amplified resists. In addition the tools are proved for the first production of wafer based NGL masks. Achieved yield, reliability and Cost of Ownership qualify the tools as ready for production.
Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)
CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.
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Programm/Programme
Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.
Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.
Thema/Themen
Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.
Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.
Aufforderung zur Vorschlagseinreichung
Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.
Daten nicht verfügbar
Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.
Finanzierungsplan
Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.
Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.
Koordinator
70569 STUTTGART
Deutschland
Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.