Aprobada la subvención alemana para un proyecto Eureka
La Comisión Europea ha decidido no oponerse a una subvención de 60 millones de euros para promocionar la participación alemana en un proyecto Eureka conjunto para desarrollar tecnologías de litografía extrema ultravioleta (EUV). Se espera que los resultados del proyecto ayuden a reforzar la posición de los proveedores de la industria europea de los semiconductores a través del desarrollo del conocimiento y de la propiedad intelectual. La litografía es una de las fases más importantes en la fabricación de circuitos integrados. Emplea un destello de luz de alta frecuencia para imprimir en láminas de sílice una imagen múltiple a escala reducida de los modelos de circuitos integrados que han sido diseñados por ingenieros. La resolución de los circuitos impresos de esta manera está impulsada por la longitud de onda de la luz que se utiliza en el proceso de impresión. La litografía de la actual generación emplea luz ultravioleta, cuya longitud de onda es de unos cuantos cientos de nanómetros. Debido a la constante disminución en el tamaño de la estructura de los semiconductores, por lo general se piensa que, en el plazo de 10 u 11 años, la longitud de onda de la luz que requiere el proceso de litografía irá más allá del espectro ultravioleta hasta llegar al EUV o a la zona de rayos X blandos. Como a estas frecuencias la interacción entre luz y materia empieza a cambiar radicalmente, la mayoría de las técnicas subyacentes en la litografía convencional tienen que modificarse drásticamente. Por ejemplo, el EUV no puede colimarse mediante lentes. Por consiguiente, para dirigirlo es necesario diseñar un conjunto de herramientas ópticas totalmente nuevas, que utilicen espejos en lugar de lentes.