Litografía ultravioleta extrema
La ley de Moore, además de evidenciar el nivel de progreso alcanzado por el sector de semiconductores, deja muy clara igualmente la intensidad de la competencia entre empresas. Ineludiblemente las limitaciones físicas y de ingeniería pronosticadas irán restando consistencia al ritmo de avance. Por si fuera poco, se está imponiendo la necesidad de captar ingentes inversiones. Para asentar su actividad comercial a los fabricantes de circuitos integrados no les queda otro remedio que seguir por la vía del desarrollo de productos y procesos. En este contexto, un consorcio de industrias europeas ha puesto en marcha un programa de investigación y desarrollo para la evaluación de la litografía ultravioleta extrema. La litografía, en el marco de la producción de circuitos integrados, constituye un elaborado proceso de impresión de obleas de silicio. Aunque comparte principios con el proceso fotolitográfico ordinario, la producción de microprocesadores avanzados hace pesar grandes restricciones y exige la reforma de procedimientos. La litografía óptica ha sido el método de fabricación en volumen utilizado últimamente; se caracteriza por el empleo de luz visible o ultravioleta. Cuanto más corta sea la longitud de onda de luz utilizada, menores serán los circuitos que puedan imprimirse. Partiendo de 436 nanómetros (azul) las longitudes de onda han bajado hasta el ultravioleta situado por los 248 nanómetros. Este proyecto se dedica a solventar los problemas derivados de la utilización de luz ultravioleta extrema, mientras augura la comercialización de este tipo de litografía antes de 2008. La luz que se utilice será de 70 nanómetros para abajo. Al mejorar las tecnologías de producción, los fabricantes de circuitos integrados tendrán la posibilidad de desarrollar productos nuevos y mantenerse competitivos en el mercado mundial. Además, los socios del proyecto, dispuestos a garantizar la viabilidad de los conceptos del sistema, están diseñando el equipo en módulos de modo que, conforme vayan aumentando los requisitos tecnológicos, la industria pueda mejorar sus sistemas sin dejar de conservar intacta la inversión de capital original.