La lithographie par nano-impression encore plus performante
Il y a quelques années, fabriquer des nanostructures posait problème puisque aucune technique n'alliait cadence de production élevée et coûts de production raisonnables. La lithographie par nano-impression (NIL) est venue pallier efficacement cette carence. Il s'agit d'une technique au cours de laquelle le moule d'un motif spécifique est appliqué sur une surface en polymère. L'empreinte est ensuite chauffée, afin de pouvoir éliminer la couche résiduelle de polymère de la zone emboutie, avant d'être métallisée. La nanostructure souhaitée est alors créée et décollée. Le projet CHANIL a vu le jour afin de rendre la lithographie par nano-impression encore plus performante et notamment pour améliorer deux points cruciaux du processus: le retrait de la matrice et le décollement de la structure. Les chercheurs ont mis au point un procédé chimique à sec pour éviter l'adhérence des matrices en nickel ou silicone. Après le traitement, l'interface matrice-film de polymère n'est absolument plus adhérente. Aucun élément du polymère ne risquant d'adhérer à la matrice, la forme de la structure ne subit donc aucune altération même après de multiples utilisations. Quant au décollement, il fait l'objet d'une nouvelle technique. Cette technique repose sur le réglage de la température et de la durée afin d'optimiser la coulée de la couche résiduelle, ainsi que sur le recours à un solvant dilué pour son retrait final. Grâce à ces deux innovations, la lithographie par nano-impression gagne en efficacité et permet de produire des nanostructures encore plus petites.
