Mejoras para la litografía por nanoimpresión
Hace unos años el mayor obstáculo para el desarrollo de nanoestructuras era el hecho de que no existiera una tecnología de fabricación capaz de proporcionar altos rendimientos y bajos costes de producción. La litografía por nanoimpresión demostró ser una eficaz solución a este problema. Con esta técnica se sella un molde de un motivo específico en la superficie de un polímero. La impresión se calienta de modo que pueda eliminarse el residuo del polímero en la zona comprimida. Finalmente, se produce la metalización de la impresión, se crea y se despega la nanoestructura deseada. El proyecto CHANIL se centra en la litografía por nanoimpresión y particularmente en enfoques capaces de mejorar dos aspectos esenciales para la culminación de esta técnica litográfica: la retirada del sello y el despegue de la estructura. En el marco de este proyecto se ha desarrollado un método de química seca para el tratamiento antiadherente de los sellos litográficos hechos de níquel o silicio. La interfaz sello-polímero tiene propiedades antiadherentes perfectas después del tratamiento y garantiza que ninguna parte del polímero se adhiere al sello pudiendo alterar la forma de la estructura, incluso después de repetidas manipulaciones. Con respecto a la fase de despegue se ha introducido una nueva técnica. Esta técnica se basa en el ajuste de temperatura y tiempo para optimizar el flujo de la capa residual, así como la utilización de un disolvente diluido para su eliminación final. Estas dos innovaciones no solamente hacen que la litografía por nanoimpresión sea más eficaz, sino también, y quizás sobre todo, posibilitan la producción de nanoestructuras más pequeñas aún.
