Estudio de la nanofabricación futura
Con la llegada de la Era de la Información, los dispositivos semiconductores se han vuelto más rápidos y tienen capacidades mayores en unas dimensiones más pequeñas. Para continuar mejorando, resulta imprescindible envasar los CI con una ancho de línea más delgada. Para ello, la VUV constituye una tecnología de litografía muy prometedora, aunque hasta ahora no se ha desarrollado del todo. En 1999, el plan internacional de tecnología del sector de los semiconductores, (ITRS, del inglés International Technology Roadmap for Semiconductors) recomendó usar litografía VUV (basada en una longitud de onda de 157nm) para fabricar nodos tecnológicos de entre 100nm y 70nm. Uno de los problemas más importantes era el período de tiempo tan breve que transcurría desde la comercialización de los sistemas de exploración de 157nm y la inserción de la tecnología de litografía en la producción. Debido a esta preocupación, el proyecto UV2Litho se centró en acelerar el desarrollo del proceso para introducir la tecnología de la litografía VUV en las líneas de producción. Por tanto, se investigó de forma exhaustiva la posibilidad de fabricar procesos de resistencia, lo cual permitió realizar demostraciones de soluciones con resistencia a radiaciones de 157nm para el nodo de 70nm. Además, también se dio a conocer la información sobre el rendimiento de la impresión de los retículos a 157nm para la industria de la fabricación de máscaras. No obstante, se ha desarrollado rápidamente una tecnología alternativa, la litografía por inmersión a 193nm, que es capaz de aprovechar los terrenos de menos de 70nm. Por otra parte, la industria de la infraestructura de 157nm no podía cumplir los estrictos requisitos necesarios para los componentes de la tecnología relacionada. Por este motivo, el interés del mercado pasó de la litografía por inmersión a 157nm a la de 193nm. A pesar de eso, aún no se ha demostrado completamente la viabilidad de la tecnología de inmersión a 193nm en términos de su valor de producción. Por tanto, en caso de avería, se prevé que la litografía a 157nm consiga superar los problemas, tal y como indica el programa del ITRS. El proyecto UV2Litho ha establecido la base para la explotación de la litografía VUV. Para más información, haga click sobre la web del proyecto: http://www.imec.be/uv2litho/(se abrirá en una nueva ventana)