Con gli occhi alla nanofabbricazione del futuro
Con l'avvento dell'era dell'informazione, i dispositivi a semiconduttore sono diventati più veloci, dotati di maggiori capacità in dimensioni più piccole. Per progredire ancora, è diventato essenziale un più serrato impacchettamento di CI, con larghezze di pista più strette. Nel conseguimento di questo obiettivo, una tecnologia estremamente promettente è la VUV, che fino ad ora non era stata sviluppata in tutte le sue potenzialità. Nel 1999, l'ITRS (International Technology Roadmap for Semiconductors) ha suggerito la litografia VUV (larghezza d'onda d'esposizione di 157nm) per la fabbricazione del nodo di tecnologia a 100 e 70nm. Il maggior problema era l'intervallo veramente breve tra la commercializzazione di sistemi step-and-scan da 157nm e l'inserimento della tecnologia litografica nella produzione. Spinto da ciò, il progetto UV2Litho si è concentrato sull'accelerazione dello sviluppo del processo per l'introduzione della tecnologia litografica VUV nelle catene di produzione. Pertanto è stata approfonditamente studiata la fattibilità dei processi di rivestimento, che ha consentito dimostrazioni di soluzioni di rivestimento a 157nm per il nodo da 70nm. Inoltre sono stati divulgati i dati sui risultati di stampa dei primi reticoli da 157nm per l'industria della produzione di maschere. Ciononostante, è stata rapidamente sviluppata una tecnologia alternativa, la litografia per immersione a 193nm, che ha la possibilità di realizzare regole di base inferiori a 70nm. D'altro canto, l'industria di infrastrutture a 157nm potrebbe non soddisfare i rigidissimi requisiti per i componenti della relativa tecnologia. Per questa ragione l'interesse del mercato si è spostato dai 157nm alla litografia per immersione a 193nm. Malgrado ciò, la fattibilità della tecnologia a immersione da 193nm non è stata ancora completamente provata in termini di valore di produzione. Per cui, in caso di fallimento, la litografia a 157nm dovrebbe succederle, come indica l'attuale roadmap dell'ITRS. Il progetto UV2Litho ha gettato le basi per lo sfruttamento della litografia VUV. Per maggiori informazioni, consultare il sito del progetto: http://www.imec.be/uv2litho/