Avancer dans la nanofabrication
L'arrivée de l'ère informatique implique le développement de dispositifs à semi-conducteurs plus rapides, plus puissants et plus petits. Les améliorations futures sont tributaires du développement de CI plus compacts et à définition de trait plus fine. Le VUV est une technologie lithographique très prometteuse à cet égard. Ce n'est que récemment que son potentiel complet a commencé à être exploité. En 1999, l'International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) a suggéré d'utiliser la lithographie VUV (longueur d'onde d'exposition de 157nm) pour la fabrication des noeuds technologiques de 100nm et de 70nm. Cette fabrication rencontrait un problème majeur, à savoir un délai très court entre la commercialisation de systèmes de scanning et de pas de 157nm et la mise en production de la technologie de lithographie. Étant donné ce problème, le projet UV2Litho s'est concentré sur l'accélération du développement des processus, de manière à permettre l'introduction de la technologie de la lithographie VUV dans les lignes de production. Le projet a effectué une étude approfondie de la fabricabilité des processus de couche de protection, qui a permis de faire la démonstration de solutions de couche de protection de 157nm pour le noeud de 70nm. De plus, l'étude a mis en lumière des informations sur les performances d'impression de réticules précoces de 157nm pour l'industrie de fabrication des masques. Ceci n'a pas empêché le développement rapide d'une technologie alternative, la lithographie 193nm par immersion. Cette technologie possède le potentiel de réaliser des groundrules dans le domaine sub 70nm. D'autre part, l'industrie de l'infrastructure 157nm était incapable de répondre aux spécifications très strictes concernant les composants des technologies annexes. Pour cette raison, l'intérêt commercial s'est déplacé de la lithographie à immersion 157nm vers l'immersion 193nm. Ceci dit, la faisabilité sur le plan de la production de la technologie d'immersion 193nm n'a pas encore été entièrement démontrée. Par conséquent, en cas d'échec la lithographie 157nm prendra la relève, comme l'indique la feuille de route ITRS. Le projet UV2Litho a posé les fondements de l'exploitation de la lithographie par VUV. Pour plus d'informations, cliquer sur le site du projet: http://www.imec.be/uv2litho/(s’ouvre dans une nouvelle fenêtre)