Masques mécaniques pour les systèmes de nanofabrication avancés
Basées sur un dépôt d'atomes concentrés au moyen d'un rayon laser, les nanotechnologies de lithographie atomique ont été développées pour permettre la fabrication précise de nanostructures de l'ordre de 10 nanomètres. La lithographie atomique de matériaux de groupe III (comme In et Ga, des éléments importants de nombreux systèmes électroniques, optoélectroniques et informatiques) s'avère particulièrement intéressante. L'un des principaux résultats du projet NANOCOLD a été le développement de masques mécaniques permettant le dépôt parallèle de masse, qui permet la création de nanostructures de haute qualité. Plus précisément, des procédures récemment développées permettent de fabriquer des systèmes travaillant en séquence ou en parallèle et capables de déposer un matériau atomique froid à une échelle inférieure à 300nm. Les problèmes d'obstruction identifiés au cours de recherches précédentes ont été étudiés plus en profondeur, et le projet a montré qu'ils pouvaient être contrôlés. En outre, ces problèmes peuvent être réduits considérablement par l'utilisation de masques à la géométrie appropriée. Bien que les masques aient été testés sur des atomes, ils ont révélé un potentiel croissant pour l'application à des molécules et des polymères. Les systèmes de masquage développés sont capables de définir des structures à une échelle inférieure à 100 nm grâce à l'utilisation d'ouvertures et de techniques d'évaporation. Cela permettrait de définir des structures arbitraires sur la même échelle en scannant le système avec des piézotranslateurs. Le projet est à la recherche de partenaires intéressés par le dépôt de matériaux au moyen d'un masque sub-micron pour la construction de structures de bas en haut.
