Máscaras mecánicas para los dispositivos avanzados de la nanofabricación
Partiendo de la deposición de átomos proyectados por un haz de láser, se han desarrollado nanotecnologías de litografía atómica para la fabricación precisa de nanoestructuras del orden de diez nanometros. Resulta especialmente interesante la litografía atómica de los materiales del grupo III, como In y Ga, dos elementos fundamentales para muchas aplicaciones de la electrónica, optoelectrónica y la tecnología de la información. Uno de los principales resultados del proyecto NANOCOLD fue el desarrollo de unas máscaras mecánicas que permiten la deposición paralela masiva, para obtener nanoestructuras de gran calidad. Más concretamente, los procedimientos ahora descubiertos permiten obtener dispositivos de trabajo fabricados tanto en serie como en paralelo, que permiten la deposición de material atómico frío en una escala de menos de 300nm. Se analizaron exhaustivamente los problemas de atascamiento identificados en investigaciones anteriores y se comprobó que se pueden controlar. Además, estos problemas se pueden minimizar bastante si se usan las geometrías adecuadas de las máscaras mecánicas. A pesar de que las máscaras se han probado en muestras atómicas, tienen más posibilidades de aplicarse también en moléculas y polímeros. Los dispositivos de formación de máscaras pueden definir las estructuras en una escala sub-100nm a través de técnicas de evaporación con aperturas libres. Esto facilitaría la definición de estructuras arbitrarias en la misma escala, explorando el dispositivo con piezotraductores. Se buscan socios interesados en utilizar la deposición de material mediante máscaras de sombra de sub-micrones para continuar colaborando, aplicando estructuras de construcción de un modo ascendente.
