Maschere meccaniche per dispositivi avanzati di nanofabbricazione
Sfruttando la deposizione di atomi focalizzati con un raggio laser, sono state sviluppate nanotecnologie per la litografia atomica che permettono la produzione accurata di nanostrutture nella gamma dei dieci nanometri. Particolarmente interessante risulta la litografia dei materiali del gruppo III, come indio e gallio, due elementi fondamentali in molte applicazioni elettroniche, optoelettroniche, e delle tecnologie dell'informazione. Uno dei più importanti risultati del progetto NANOCOLD è stata la messa a punto di maschere meccaniche che permettono deposizioni parallele massiccie, grazie alle quali si ottengono nanostrutture di elevata qualità. Più in dettaglio, le nuove procedure sono adatte a dispositivi di produzione, sia seriali che paralleli, che permettono la deposizione forata di materiale atomico freddo a scala inferiore ai 300nanometri. Quanto ai problemi di clogging individuati nel precedente lavoro di ricerca, sono stati analizzati in dettaglio e si è provato che possono essere controllati. I problemi possono inoltre essere significativamente minimizzati usando maschere meccaniche con le opportune geometrie. Nonostante siano state provate con elementi atomici, le maschere hanno mostrato ottime possibilità di applicazione con molecole e polimeri. I nuovi dispositivi di mascheramento forato possono definire strutture a scala inferiore ai 100nanometri, grazie alle tecniche di evaporazione che usano aperture libere. Grazie alla scansione del dispositivo con piezotranslatori, dovrebbe così essere possibile definire strutture arbitrarie alla stessa scala. Si cercano per ulteriore collaborazione partner interessati alla deposizione di materiale con maschere con forature submicron per la creazione bottom-to-top di strutture.
