Mechanische Masken für moderne Nanofabrikationsgeräte
Auf Grundlage der Ablagerung von durch Laserstrahlen fokussierten Atomen wurden Nanotechnologien in der Atomlithograhie für die akkurate Fabrikation von Nanostrukturen im Bereich von zehn Nanometern entwickelt. Besonders interessant ist die Atomlithographie von Materialien der Gruppe III wie In und Ga, zwei Hauptelementen zahlreicher elektronischer, optoelektronischer und informationstechnologischer Anwendungen. Eines der wichtigsten Ergebnisse des NANOCOLD-Projekts war die Entwicklung mechanischer Masken, die eine massive parallele Ablagerung ermöglichen, die wiederum zu qualitativ hochwertigen Nanostrukturen führen. Im Einzelnen bedeutet dies, die neu entwickelten Verfahren eignen sich sowohl für seriell als auch für parallel hergestellte Arbeitsgeräte, die die Schattenablagerung kalter Atommaterialien im Maßstab von unter 300 nm ermöglichen. Die im Rahmen vorheriger Forschungsarbeiten identifizierten Verstopfungsprobleme wurden eingehend studiert. Dabei fand man heraus, dass deren Kontrolle möglich ist. Außerdem können diese Probleme durch die Nutzung entsprechender Geometrien der mechanischen Masken entscheidend vermindert werden. Trotz der Tatsache, dass die Masken anhand von Atomarten getestet wurden, zeigen sie ein erhöhtes Potenzial, auch für Moleküle und Polymere genutzt zu werden. Die entwickelten Geräte zur Schattenmaskierung können durch Verdampfungsverfahren mit Hilfe offener Blenden Strukturen im Maßstab von unter 100 nm definieren. So wäre es durch das Scannen des Geräts mit Piezotranslatoren auch möglich, willkürliche Strukturen desselben Maßstabs zu definieren. Es werden Partner zur weiteren Zusammenarbeit gesucht, die ein Interesse an der Nutzung dieser Materialablagerung über submikrone Schattenmasken zur umfassenden Anwendung von Baustrukturen haben.
