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Large area interferometric imager for highly sensitive inspection of materials

Descrizione del progetto

Una nuova interferenza della luce sfrutta la forza insita nella diversità

Il termine interferenza è solitamente associato a connotazioni negative. Ciononostante, i modelli di interferenza provocati dalla fusione di due o più tipologie di onde dello spettro elettromagnetico possono essere piuttosto preziosi. Gli interferometri che sfruttano questo principio vengono impiegati in numerosi campi scientifici e ingegneristici, quando l’obiettivo è quello di approfondire la composizione dei materiali. Il progetto LIM, finanziato dall’UE, sta immettendo sul mercato un registratore interferometrico di immagini avanzato ad ampia superficie. La sua capacità di caratterizzare i campioni di materiali con una sensibilità che raggiunge i pochi strati atomici, combinata con le sue dimensioni potenzialmente compatte, potrebbe rivoluzionare l’ispezione in linea in aree critiche, tra cui quelle dei semiconduttori e della fotonica.

Obiettivo

The proposed project aims at applying and exploiting a novel type of imaging technology, a large area interferometric imager (LIM), which was largely developed within the FET project Q-MIC. More specifically, we will analyse customer-relevant samples, evaluate the performance of prototypes in industrial environments and potentially adapt them to specific needs, and finally perform full market assessment and commercialization plan for the proposed technology. This in close collaboration with companies, which have already shown interest in using the technology as measurement, inspection tool or integrating it into their existing imaging systems. The LIM allows imaging of large sample areas and volumes with unprecedented sensitivities (a few atomic layers of material). Thanks to a close reference scheme, the technology is inherently very robust while also offering the possibility of compacting it in a small form factor. All these features are attractive for material analysis and in-line inspection, essential in the high-tech semiconductor, glass, photonic, and display industries.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

Parole chiave

Programma(i)

Argomento(i)

Meccanismo di finanziamento

CSA - Coordination and support action

Vedi tutti i progetti finanziati nell’ambito di questo schema di finanziamento

Invito a presentare proposte

(si apre in una nuova finestra) H2020-FETOPEN-2018-2020

Vedi tutti i progetti finanziati nell’ambito del bando

Coordinatore

FUNDACIO INSTITUT DE CIENCIES FOTONIQUES
Contributo netto dell'UE
€ 100 000,00
Indirizzo
AVINGUDA CARL FRIEDRICH GAUSS 3
08860 Castelldefels
Spagna
Regione
Este Cataluña Barcelona
Tipo di attività
Research Organisations
Collegamenti
Costo totale
Nessun dato