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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
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Novel approaches for halogen-free and sustainable etching of Silicon and Glass

Descripción del proyecto

El método avanzado de grabación por plasma elimina el uso de halógenos

Los actuales métodos de grabación por plasma, que ayudan a eliminar con precisión capas de la superficie de un material, en la industria de los semiconductores son insostenibles debido al uso de halógenos nocivos. El equipo del proyecto HaloFreeEtch, financiado por el Consejo Europeo de Innovación, pretende desarrollar nuevos procesos de grabado sin halógenos, centrados en el silicio y el óxido de silicio. Esos nuevos métodos deben ser limpios, eficaces y precisos. El equipo de HaloFreeEtch combinará la investigación de laboratorio, el cribado computacional y el análisis de sostenibilidad para identificar agentes grabadores prometedores, predecir las condiciones de trabajo y evaluar el impacto ambiental. Al reducir la huella de carbono y el consumo de energía, el planteamiento propuesto podría ser un modelo para el desarrollo de procesos sostenibles en la electrónica y muchas otras industrias.

Objetivo

Current industrial plasma etching processes are not sustainable because they make use of halogens. HaloFreeEtch will take a fundamental, interdisciplinary and systematic approach to find new halogen-free etching processes.
HaloFreeEtch aims to identify new, halogen-free and sustainable etching processes for sustainable semiconductor manufacturing, applied to deep etching of silicon and silicon oxide. The novel etching processes we aim for shall be clean (in terms of harmful chemicals), efficient (in terms of processing speed and manufacturability) and precise (in terms of the desired shapes). HaloFreeEtch will provide a novel model- and data-based methodology for sustainability and life cycle analysis of plasma-etching to quantify the carbon-footprint of all novel etching processes.
HaloFreeEtch combines lab-scale research on three innovative technological routes with computational screening of novel and promising etchants, a comprehensive multi-scale modeling approach to predict potential working points and a model-based life cycle and sustainability analysis. Hydrogen (H)-based, metal catalyst-assisted as well as approaches inspired by atomic layer etching (ALE) will be studied. State-of-the-art plasma etching machines will be modified and combined with innovative features and advanced analytics. Besides getting rid of halogens, we will address more dimensions of sustainability such as the high energy consumption of the established plasma etching processes. HaloFreeEtch will implement a novel, sustainability-driven process development scheme which might serve as a blueprint for sustainability-driven process development in electronics and many other industries.
The project will focus on the semiconductor industry, where plasma etching is a standard industrial process used for many applications. Taking the lead in the development of innovative halogen-free processes will strengthen the long-term position of the EU in the global chips industry.

Ámbito científico (EuroSciVoc)

CORDIS clasifica los proyectos con EuroSciVoc, una taxonomía plurilingüe de ámbitos científicos, mediante un proceso semiautomático basado en técnicas de procesamiento del lenguaje natural. Véas: El vocabulario científico europeo..

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Palabras clave

Palabras clave del proyecto indicadas por el coordinador del proyecto. No confundir con la taxonomía EuroSciVoc (Ámbito científico).

Programa(s)

Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.

Tema(s)

Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.

Régimen de financiación

Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.

HORIZON-EIC - HORIZON EIC Grants

Ver todos los proyectos financiados en el marco de este régimen de financiación

Convocatoria de propuestas

Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.

(se abrirá en una nueva ventana) HORIZON-EIC-2023-PATHFINDERCHALLENGES-01

Ver todos los proyectos financiados en el marco de esta convocatoria

Coordinador

TECHNISCHE UNIVERSITAET CHEMNITZ
Aportación neta de la UEn

Aportación financiera neta de la UE. Es la suma de dinero que recibe el participante, deducida la aportación de la UE a su tercero vinculado. Considera la distribución de la aportación financiera de la UE entre los beneficiarios directos del proyecto y otros tipos de participantes, como los terceros participantes.

€ 1 139 027,50
Dirección
STRASSE DER NATIONEN 62
09111 Chemnitz
Alemania

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Región
Sachsen Chemnitz Chemnitz
Tipo de actividad
Higher or Secondary Education Establishments
Enlaces
Coste total

Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.

€ 1 139 027,50

Participantes (6)

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