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CORDIS - Forschungsergebnisse der EU
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Novel approaches for halogen-free and sustainable etching of Silicon and Glass

Projektbeschreibung

Fortschrittlicher Ansatz zur Plasmaätzung ohne Halogen

Mit Plasmaätzung werden in der Halbleiterindustrie präzise Schichten von Materialoberflächen entfernt. Das Verfahren ist jedoch nicht nachhaltig, da schädliches Halogen eingesetzt wird. Über das EIC-finanzierte Projekt HaloFreeEtch soll ein neues Ätzverfahren ohne Halogene entwickelt werden, das auf Silizium und Siliziumoxid beruht. Das neue Verfahren sollte sauber, effizient und präzise sein. Das HaloFreeEtch-Team kombiniert Laborforschung, computergestütztes Screening und Nachhaltigkeitsanalysen, um mögliche Ätzmittel zu finden, die Arbeitsbedingungen vorherzusagen und die Auswirkungen auf die Umwelt zu prüfen. Durch den geringeren CO2-Fußabdruck und Energieverbrauch könnte der Ansatz als Ausgangspunkt für eine nachhaltige Prozessentwicklung in der Elektronik und vielen anderen Industrien dienen.

Ziel

Current industrial plasma etching processes are not sustainable because they make use of halogens. HaloFreeEtch will take a fundamental, interdisciplinary and systematic approach to find new halogen-free etching processes.
HaloFreeEtch aims to identify new, halogen-free and sustainable etching processes for sustainable semiconductor manufacturing, applied to deep etching of silicon and silicon oxide. The novel etching processes we aim for shall be clean (in terms of harmful chemicals), efficient (in terms of processing speed and manufacturability) and precise (in terms of the desired shapes). HaloFreeEtch will provide a novel model- and data-based methodology for sustainability and life cycle analysis of plasma-etching to quantify the carbon-footprint of all novel etching processes.
HaloFreeEtch combines lab-scale research on three innovative technological routes with computational screening of novel and promising etchants, a comprehensive multi-scale modeling approach to predict potential working points and a model-based life cycle and sustainability analysis. Hydrogen (H)-based, metal catalyst-assisted as well as approaches inspired by atomic layer etching (ALE) will be studied. State-of-the-art plasma etching machines will be modified and combined with innovative features and advanced analytics. Besides getting rid of halogens, we will address more dimensions of sustainability such as the high energy consumption of the established plasma etching processes. HaloFreeEtch will implement a novel, sustainability-driven process development scheme which might serve as a blueprint for sustainability-driven process development in electronics and many other industries.
The project will focus on the semiconductor industry, where plasma etching is a standard industrial process used for many applications. Taking the lead in the development of innovative halogen-free processes will strengthen the long-term position of the EU in the global chips industry.

Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)

CORDIS klassifiziert Projekte mit EuroSciVoc, einer mehrsprachigen Taxonomie der Wissenschaftsbereiche, durch einen halbautomatischen Prozess, der auf Verfahren der Verarbeitung natürlicher Sprache beruht. Siehe: Das European Science Vocabulary.

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Schlüsselbegriffe

Schlüsselbegriffe des Projekts, wie vom Projektkoordinator angegeben. Nicht zu verwechseln mit der EuroSciVoc-Taxonomie (Wissenschaftliches Gebiet).

Programm/Programme

Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.

Thema/Themen

Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.

Finanzierungsplan

Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.

HORIZON-EIC - HORIZON EIC Grants

Alle im Rahmen dieses Finanzierungsinstruments finanzierten Projekte anzeigen

Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.

(öffnet in neuem Fenster) HORIZON-EIC-2023-PATHFINDERCHALLENGES-01

Alle im Rahmen dieser Aufforderung zur Einreichung von Vorschlägen finanzierten Projekte anzeigen

Koordinator

TECHNISCHE UNIVERSITAET CHEMNITZ
Netto-EU-Beitrag

Finanzieller Nettobeitrag der EU. Der Geldbetrag, den der Beteiligte erhält, abzüglich des EU-Beitrags an mit ihm verbundene Dritte. Berücksichtigt die Aufteilung des EU-Finanzbeitrags zwischen den direkten Begünstigten des Projekts und anderen Arten von Beteiligten, wie z. B. Dritten.

€ 1 139 027,50
Adresse
STRASSE DER NATIONEN 62
09111 Chemnitz
Deutschland

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Region
Sachsen Chemnitz Chemnitz
Aktivitätstyp
Higher or Secondary Education Establishments
Links
Gesamtkosten

Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.

€ 1 139 027,50

Beteiligte (6)

Mein Booklet 0 0