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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
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Contenido archivado el 2024-06-18

Lithography Enhancement towards Nano Scale

Objetivo

Water immersion lithography has been widely accepted as patterning technology for the 45nm technology node, but solutions for the patterning of 32nm and 22nm technology nodes are not clear yet.
EUV lithography is not yet available for industrial use, in spite of the impressive progresses registered till now, while multiple beam e beam lithography is still in development. Double patterning seems to be the only viable option to support the development of future process generations in a cost effective way and within the time limits defined by ITRS roadmap.
Its main advantage consists in enabling the definition of structures beyond resolution capability of existing lithographic tools, without drastic changes in manufacturing infrastructures or huge investments.
Two alternative approaches are possible, both based on existing immersion scanners:
Double exposure, which implies two subsequent exposure steps, and the use of different combinations of hard masks or innovative resist materials and development process;
Pitch doubling based on a single lithography exposure followed by the formation of spacers, by material deposition and etch-back, also in combination with CMP.
Both approaches are being actively investigated, but they are still far from maturity. Among the problems to be solved there is the control of mask to mask alignment, for double exposure, and the control of the thickness of deposited layers, of defects and of profiles, for pitch doubling. Common concerns are cost, size control and the partitioning of the design. The pitch doubling approach is the more advanced, specially for memories, while double exposure could have a broader application, but will require improvement to equipment.
The consortium includes all required competences to develop all elements of the supply chain required to bring double patterning to industrial maturity, in order to support 32nm and 22nm node mass production.

Programa(s)

Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.

Tema(s)

Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.

Convocatoria de propuestas

Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.

JU-ENIAC-2008-1
Consulte otros proyectos de esta convocatoria

Régimen de financiación

Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.

JTI-CP-ENIAC - Joint Technology Initiatives - Collaborative Project (ENIAC)

Coordinador

Numonyx Italy Srl
Aportación de la UE
€ 998 660,00
Dirección
VIA CAMILLO OLIVETTI 2
20864 AGRATE BRIANZA
Italia

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Tipo de actividad
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Enlaces
Coste total

Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.

Sin datos

Participantes (11)

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