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CORDIS - Forschungsergebnisse der EU
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Inhalt archiviert am 2024-06-18

Lithography Enhancement towards Nano Scale

Ziel

Water immersion lithography has been widely accepted as patterning technology for the 45nm technology node, but solutions for the patterning of 32nm and 22nm technology nodes are not clear yet.
EUV lithography is not yet available for industrial use, in spite of the impressive progresses registered till now, while multiple beam e beam lithography is still in development. Double patterning seems to be the only viable option to support the development of future process generations in a cost effective way and within the time limits defined by ITRS roadmap.
Its main advantage consists in enabling the definition of structures beyond resolution capability of existing lithographic tools, without drastic changes in manufacturing infrastructures or huge investments.
Two alternative approaches are possible, both based on existing immersion scanners:
Double exposure, which implies two subsequent exposure steps, and the use of different combinations of hard masks or innovative resist materials and development process;
Pitch doubling based on a single lithography exposure followed by the formation of spacers, by material deposition and etch-back, also in combination with CMP.
Both approaches are being actively investigated, but they are still far from maturity. Among the problems to be solved there is the control of mask to mask alignment, for double exposure, and the control of the thickness of deposited layers, of defects and of profiles, for pitch doubling. Common concerns are cost, size control and the partitioning of the design. The pitch doubling approach is the more advanced, specially for memories, while double exposure could have a broader application, but will require improvement to equipment.
The consortium includes all required competences to develop all elements of the supply chain required to bring double patterning to industrial maturity, in order to support 32nm and 22nm node mass production.

Programm/Programme

Mehrjährige Finanzierungsprogramme, in denen die Prioritäten der EU für Forschung und Innovation festgelegt sind.

Thema/Themen

Aufforderungen zur Einreichung von Vorschlägen sind nach Themen gegliedert. Ein Thema definiert einen bestimmten Bereich oder ein Gebiet, zu dem Vorschläge eingereicht werden können. Die Beschreibung eines Themas umfasst seinen spezifischen Umfang und die erwarteten Auswirkungen des finanzierten Projekts.

Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

Verfahren zur Aufforderung zur Einreichung von Projektvorschlägen mit dem Ziel, eine EU-Finanzierung zu erhalten.

JU-ENIAC-2008-1
Andere Projekte für diesen Aufruf anzeigen

Finanzierungsplan

Finanzierungsregelung (oder „Art der Maßnahme“) innerhalb eines Programms mit gemeinsamen Merkmalen. Sieht folgendes vor: den Umfang der finanzierten Maßnahmen, den Erstattungssatz, spezifische Bewertungskriterien für die Finanzierung und die Verwendung vereinfachter Kostenformen wie Pauschalbeträge.

JTI-CP-ENIAC - Joint Technology Initiatives - Collaborative Project (ENIAC)

Koordinator

Numonyx Italy Srl
EU-Beitrag
€ 998 660,00
Adresse
VIA CAMILLO OLIVETTI 2
20864 AGRATE BRIANZA
Italien

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Aktivitätstyp
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Links
Gesamtkosten

Die Gesamtkosten, die dieser Organisation durch die Beteiligung am Projekt entstanden sind, einschließlich der direkten und indirekten Kosten. Dieser Betrag ist Teil des Gesamtbudgets des Projekts.

Keine Daten

Beteiligte (11)

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