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CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
CORDIS
Contenido archivado el 2024-06-18

European 450mm Lithography and Metrology Development for Advanced Patterning

Objetivo

The overall goal of the E450LMDAP project is to develop 450 mm lithography and metrology modules and tools and to initiate distributed pilot line activities over the 450 mm lithography and metrology tool platform eco system. These pilot line activities will go down to the pilot lines of the lithography tool and the related (sub-)systems and components supply chain and metrology tool suppliers. In addition, also early 1x node patterning module qualification at the imec’s pilot line will be part of the project. Lithography, metrology and deposition equipment performance suited for 450 mm will be demonstrated, interconnected with holistic methodologies to the 450 mm pilot line at imec which is equipped with European systems. The project will complement the engagement of the European semiconductor equipment industry in the 450mm wafer size transition that started with the ENIAC JU EEMI450 initiative and proceeded with subsequent projects funded with public money, amongst others NGC450, SOI450, EEM450PR and E450EDL which will result into first critical process module availability in the imec pilot line.
The consortium comprises 44 members from 7 different European countries with SMEs and research institutes and also IDM as end users. The project is organized in three technical work packages and a work package on management and coordination.
The main objective in the work package on lithography is to develop and to have prototyping activities comprising amongst others wafer stage, wafer handler, optics, electronic as well as preliminary tool system qualification.
In the dedicated work package on metrology 450mm metrology tool types will be developed for wafer and mask platforms as well as a holistic metrology data hub for advance lithography data management and fab.
Finally, in the work package on advanced patterning a selection of critical N10 layers, which are currently under development at 300mm wafer sizes, will be transferred to an early 450mm lithography platform.

Ámbito científico (EuroSciVoc)

CORDIS clasifica los proyectos con EuroSciVoc, una taxonomía plurilingüe de ámbitos científicos, mediante un proceso semiautomático basado en técnicas de procesamiento del lenguaje natural. Véas: El vocabulario científico europeo..

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Programa(s)

Programas de financiación plurianuales que definen las prioridades de la UE en materia de investigación e innovación.

Tema(s)

Las convocatorias de propuestas se dividen en temas. Un tema define una materia o área específica para la que los solicitantes pueden presentar propuestas. La descripción de un tema comprende su alcance específico y la repercusión prevista del proyecto financiado.

Convocatoria de propuestas

Procedimiento para invitar a los solicitantes a presentar propuestas de proyectos con el objetivo de obtener financiación de la UE.

ENIAC-2013-2
Consulte otros proyectos de esta convocatoria

Régimen de financiación

Régimen de financiación (o «Tipo de acción») dentro de un programa con características comunes. Especifica: el alcance de lo que se financia; el porcentaje de reembolso; los criterios específicos de evaluación para optar a la financiación; y el uso de formas simplificadas de costes como los importes a tanto alzado.

JTI-CP-ENIAC - Joint Technology Initiatives - Collaborative Project (ENIAC)

Coordinador

ASML NETHERLANDS B.V.
Aportación de la UE
€ 15 516 436,45
Dirección
DE RUN 6501
5504DR VELDHOVEN
Países Bajos

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Tipo de actividad
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Enlaces
Coste total

Los costes totales en que ha incurrido esta organización para participar en el proyecto, incluidos los costes directos e indirectos. Este importe es un subconjunto del presupuesto total del proyecto.

Sin datos

Participantes (40)

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