Skip to main content
Vai all'homepage della Commissione europea (si apre in una nuova finestra)
italiano italiano
CORDIS - Risultati della ricerca dell’UE
CORDIS
Contenuto archiviato il 2024-06-18

European 450mm Lithography and Metrology Development for Advanced Patterning

Obiettivo

The overall goal of the E450LMDAP project is to develop 450 mm lithography and metrology modules and tools and to initiate distributed pilot line activities over the 450 mm lithography and metrology tool platform eco system. These pilot line activities will go down to the pilot lines of the lithography tool and the related (sub-)systems and components supply chain and metrology tool suppliers. In addition, also early 1x node patterning module qualification at the imec’s pilot line will be part of the project. Lithography, metrology and deposition equipment performance suited for 450 mm will be demonstrated, interconnected with holistic methodologies to the 450 mm pilot line at imec which is equipped with European systems. The project will complement the engagement of the European semiconductor equipment industry in the 450mm wafer size transition that started with the ENIAC JU EEMI450 initiative and proceeded with subsequent projects funded with public money, amongst others NGC450, SOI450, EEM450PR and E450EDL which will result into first critical process module availability in the imec pilot line.
The consortium comprises 44 members from 7 different European countries with SMEs and research institutes and also IDM as end users. The project is organized in three technical work packages and a work package on management and coordination.
The main objective in the work package on lithography is to develop and to have prototyping activities comprising amongst others wafer stage, wafer handler, optics, electronic as well as preliminary tool system qualification.
In the dedicated work package on metrology 450mm metrology tool types will be developed for wafer and mask platforms as well as a holistic metrology data hub for advance lithography data management and fab.
Finally, in the work package on advanced patterning a selection of critical N10 layers, which are currently under development at 300mm wafer sizes, will be transferred to an early 450mm lithography platform.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.

È necessario effettuare l’accesso o registrarsi per utilizzare questa funzione

Programma(i)

Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.

Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

ENIAC-2013-2
Vedi altri progetti per questo bando

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

JTI-CP-ENIAC - Joint Technology Initiatives - Collaborative Project (ENIAC)

Coordinatore

ASML NETHERLANDS B.V.
Contributo UE
€ 15 516 436,45
Indirizzo
DE RUN 6501
5504DR VELDHOVEN
Paesi Bassi

Mostra sulla mappa

Tipo di attività
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Collegamenti
Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

Nessun dato

Partecipanti (40)

Il mio fascicolo 0 0