Objectif
The SeNaTe project is the next in a chain of thematically connected ENIAC JU KET pilot line projects which are associated with 450mm/300mm development for the 12nm and 10nm technology nodes. The main objective is the demonstration of the 7nm IC technology integration in line with the industry needs and the ITRS roadmap on real devices in the Advanced Patterning Center at imec using innovative device architecture and comprising demonstration of a lithographic platform for EUV and immersion technology, advanced process and holistic metrology platforms, new materials and mask infrastructure.
A lithography scanner will be developed based on EUV technology to achieve the 7nm module patterning specification. Metrology platforms need to be qualified for N7’s 1D, 2D and 3D geometries with the appropriate precision and accuracy. For the 7nm technology modules a large number of new materials will need to be introduced. The introduction of these new materials brings challenges for all involved processes and the related equipment set. Next to new deposition processes also the interaction of the involved materials with subsequent etch, clean and planarization steps will be studied. Major European stakeholders in EUV mask development will collaboratively work together on a number of key remaining EUV mask issues.
The first two years of the project will be dedicated to find the best options for patterning, device performance, and integration. In the last year a full N7 integration with electrical measurements will be performed to enable the validation of the 7nm process options for a High Volume Manufacturing.
The SeNaTe project relates to the ECSEL work program topic Process technologies – More Moore. It addresses and targets as set out in the MASP at the discovery of new Semiconductor Process, Equipment and Materials solutions for advanced CMOS processes that enable the nano-structuring of electronic devices with 7nm resolution in high-volume manufacturing and fast prototyping.
Champ scientifique
- engineering and technologynanotechnologynano-materialstwo-dimensional nanostructuresgraphene
- engineering and technologymaterials engineeringcoating and films
- natural sciencesphysical scienceselectromagnetism and electronicssemiconductivity
- natural scienceschemical sciencesinorganic chemistrymetalloids
- engineering and technologymaterials engineeringceramics
Programme(s)
Régime de financement
ECSEL-IA - ECSEL Innovation ActionCoordinateur
5504DR Veldhoven
Pays-Bas
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Participants (51)
74000 Annecy
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3001 Leuven
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76705 Rehovot
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1109 Dresden
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38000 GRENOBLE
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L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.
3001 HEVERLEE
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Participation terminée
1322 AP ALMERE
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73614 SCHORNDORF
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L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.
51429 Bergisch Gladbach
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Participation terminée
78315 Radolfzell
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91300 MASSY
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L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.
7521 PH Enschede
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L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.
Entité juridique autre qu’un sous-traitant qui est affiliée ou juridiquement liée à un participant. L’entité réalise des travaux dans les conditions prévues par la convention de subvention, fournit des biens ou des services pour l’action, mais n’a pas signé la convention de subvention. Le tiers respecte les règles applicables au participant qui lui est lié dans le cadre de la convention de subvention en ce qui concerne l’éligibilité des coûts et le contrôle des dépenses.
7521 PH Enschede
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Entité juridique autre qu’un sous-traitant qui est affiliée ou juridiquement liée à un participant. L’entité réalise des travaux dans les conditions prévues par la convention de subvention, fournit des biens ou des services pour l’action, mais n’a pas signé la convention de subvention. Le tiers respecte les règles applicables au participant qui lui est lié dans le cadre de la convention de subvention en ce qui concerne l’éligibilité des coûts et le contrôle des dépenses.
5683 CR Best
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7521PH Enschede
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Participation terminée
7521 PH Enschede
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7521 PH Enschede
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7521 PH Enschede
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34000 Montpellier
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627 00 Brno
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5651 GG Eindhoven
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80686 Munchen
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01109 Dresden
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Participation terminée
63450 Hanau
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85551 Heimstetten
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3001 Leuven
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70569 Stuttgart
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Participation terminée
82109 KIRYAT GAT
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Participation terminée
19801 WILMINGTON NEW CASTLE DE
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07745 JENA
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2306990 Migdal Haemek
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DH1 1TW Durham
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76187 Karlsruhe
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35781 Weilburg
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23100 Migdal Haemek
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9500 Villach
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3001 Leuven
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20692 Yokneam
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76100 REHOVOT
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38116 Braunschweig
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31700 Blagnac
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L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.
1117 BUDAPEST
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38190 Bernin
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75447 Sternenfels
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L’entreprise s’est définie comme une PME (petite et moyenne entreprise) au moment de la signature de la convention de subvention.
2595 DA Den Haag
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7522 NB Enschede
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5652 AW Eindhoven
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Entité juridique autre qu’un sous-traitant qui est affiliée ou juridiquement liée à un participant. L’entité réalise des travaux dans les conditions prévues par la convention de subvention, fournit des biens ou des services pour l’action, mais n’a pas signé la convention de subvention. Le tiers respecte les règles applicables au participant qui lui est lié dans le cadre de la convention de subvention en ce qui concerne l’éligibilité des coûts et le contrôle des dépenses.
5651 GG Eindhoven
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Entité juridique autre qu’un sous-traitant qui est affiliée ou juridiquement liée à un participant. L’entité réalise des travaux dans les conditions prévues par la convention de subvention, fournit des biens ou des services pour l’action, mais n’a pas signé la convention de subvention. Le tiers respecte les règles applicables au participant qui lui est lié dans le cadre de la convention de subvention en ce qui concerne l’éligibilité des coûts et le contrôle des dépenses.
5651 GH Eindhoven
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73447 Oberkochen
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1322 AP Almere
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