Publications
Auteurs:
A. Erdmann, P. Evanschitzky, H. Mezilhy, V. Philipsen, E. Hendrickx, M. Bauer
Publié dans:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numéro 18/01, 2019, Page(s) 1, ISSN 1932-5150
Éditeur:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.18.1.011005
Auteurs:
Peter Evanschitzky, Andreas Erdmann
Publié dans:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numéro 16/04, 2017, Page(s) 1, ISSN 1932-5150
Éditeur:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.16.4.041005
Auteurs:
Andreas Erdmann, Dongbo Xu, Peter Evanschitzky, Vicky Philipsen, Vu Luong, Eric Hendrickx
Publié dans:
Advanced Optical Technologies, Numéro 6/3-4, 2017, ISSN 2192-8584
Éditeur:
De Gruyter
DOI:
10.1515/aot-2017-0019
Auteurs:
V. Soltwisch, A. Haase, J. Wernecke, J. Probst, M. Schoengen, S. Burger, M. Krumrey, F. Scholze
Publié dans:
Physical Review B, Numéro 94/3, 2016, ISSN 2469-9950
Éditeur:
The American Physical Society
DOI:
10.1103/PhysRevB.94.035419
Auteurs:
W. Schwarzenbach, C. Figuet, D. Delprat, C. Veytizou, I. Huyet, C. Tempesta, L. Ecarnot, J. Widiez, V. Loup, J.-M. Hartmann, P. Besson, C. Deguet, F. Mazen, B.-Y. Nguyen, C. Maleville
Publié dans:
ECS Transactions, Numéro 66/4, 2015, Page(s) 31-37, ISSN 1938-5862
Éditeur:
Electrochemical Society, Inc.
DOI:
10.1149/06604.0031ecst
Auteurs:
Violeta Navarro, Hamed Sadeghian, Abbas Mohtashami, Ilan Englard, Dror Shemesh, Nitin Singh Malik
Publié dans:
33rd European Mask and Lithography Conference, 2017, Page(s) 17, ISBN 9781-510613577
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2279707
Auteurs:
Mark van de Kerkhof, Hans Jasper, Leon Levasier, Rudy Peeters, Roderik van Es, Jan-Willem Bosker, Alexander Zdravkov, Egbert Lenderink, Fabrizio Evangelista, Par Broman, Bartosz Bilski, Thorsten Last
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, 2017, Page(s) 101430D
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2258025
Auteurs:
Mark A. van de Kerkhof, Uwe Zeitner, Torsten Feigl, Stefan Bäumer, Robbert Jan Voogd, Ad Schasfoort, Evert Westerhuis, Wouter Engelen, Manfred Dikkers, Yassin Chowdhury, Michael D. Kriese
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Page(s) 24, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297433
Auteurs:
Roderik van Es, Mark van de Kerkhof, Leon Levasier, Rudy Peeters, Hans Jasper
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, 2017, Page(s) 2, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2281184
Auteurs:
Mark A. van de Kerkhof, Arthur W. E. Minnaert, Marco Pieters, Hans Meiling, Joost Smits, Rudy Peeters, Roderik van Es, Geert Fisser, Jos W. de Klerk, Roel Moors, Eric Verhoeven, Leon Levasier
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Page(s) 13, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299503
Auteurs:
Alberto Pirati, Rudy Peeters, Daniel Smith, Sjoerd Lok, Martijn van Noordenburg, Roderik van Es, Eric Verhoeven, Henk Meijer, Arthur Minnaert, Jan-Willem van der Horst, Hans Meiling, Joerg Mallmann, Christian Wagner, Judon Stoeldraijer, Geert Fisser, Jo Finders, Carmen Zoldesi, Uwe Stamm, Herman Boom, David Brandt, Daniel Brown, Igor Fomenkov, Michael Purvis
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VII, 2016, Page(s) 97760A
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2220423
Auteurs:
Derk Brouns, Aage Bendiksen, Par Broman, Eric Casimiri, Paul Colsters, Peter Delmastro, Dennis de Graaf, Paul Janssen, Mark van de Kerkhof, Ronald Kramer, Matthias Kruizinga, Henk Kuntzel, Frits van der Meulen, David Ockwell, Maria Peter, Daniel Smith, Beatrijs Verbrugge, David van de Weg, Jim Wiley, Noelie Wojewoda, Carmen Zoldesi, Pieter van Zwol
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VII, 2016, Page(s) 97761Y
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2221909
Auteurs:
Alberto Pirati, Jan van Schoot, Kars Troost, Rob van Ballegoij, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Erik Loopstra, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Niclas Mika, Jeannot Dredonx, Uwe Stamm, Bernhard Kneer, Bernd Thuering, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, 2017, Page(s) 101430G
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2261079
Auteurs:
Jan van Schoot, Kars Troost, Frank Bornebroek, Rob van Ballegoij, Sjoerd Lok, Peter Krabbendam, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Jo Finders, Hans Meiling, Eelco van Setten, Bernhard Kneer, Peter Kuerz, Winfried Kaiser, Tilmann Heil, Sascha Migura
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Page(s) 23, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2295800
Auteurs:
Jo Finders, Sander Wuister, Thorsten Last, Gijsbert Rispens, Eleni Psari, Jan Lubkoll, Eelco van Setten, Friso Wittebrood
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VII, 2016, Page(s) 97761P
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2220036
Auteurs:
Jan van Schoot, Koen van Ingen Schenau, Gerardo Bottiglieri, Kars Troost, John Zimmerman, Sascha Migura, Bernhard Kneer, Jens Timo Neumann, Winfried Kaiser
Publié dans:
Photomask Technology 2015, 2015, Page(s) 963503
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2202258
Auteurs:
Norbert Koster, Edwin te Sligte, Freek Molkenboer, Alex Deutz, Peter van der Walle, Pim Muilwijk, Wouter Mulckhuyse, Bastiaan Oostdijck, Christiaan Hollemans, Björn Nijland, Peter Kerkhof, Michel van Putten, Jeroen Westerhout
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, 2017, Page(s) 101431N
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2257997
Auteurs:
Chien-Ching Wu, Maurice P.M. A. Limpens, Jacqueline van Veldhoven, Herman Bekman, Alex Deutz, Edwin te Sligte, Arnold J. Storm, Michel van Putten
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Page(s) 33, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297369
Auteurs:
F.T. Molkenboer, N.B. Koster, A.F. Deutz, B.A.H. Nijland, P.J. Kerkhof, P.M. Muilwijk, B.W. Oostdijck, J. Westerhout, C.L. Hollemans, W.F.W. Mulckhuyse, M. van Putten, P. van der Walle, A.M. Hoogstrate, J.R.H. Diesveld, A. Abutan
Publié dans:
AVS Proceedings, Numéro 64, 2017, Page(s) VT-WeM3
Éditeur:
AVS
Auteurs:
Michel van Putten, N.B. Koster, A.F. Deutz, B.A.H. Nijland, P.J. Kerkhof, P.M. Muilwijk, B.W. Oostdijck, J. Westerhout, C.L. Hollemans, E. te Sligte, W.F.W. Mulckhuyse, F.T. Molkenboer, A.M. Hoogstrate, P. van der Walle, J.R.H. Diesveld, A. Abutan
Publié dans:
AVS Proceedings, Numéro 64, 2017, Page(s) VT-TuM11
Éditeur:
AVS
Auteurs:
Edwin te Sligte, Michel van Putten, Freek T. Molkenboer, Peter van der Walle, Pim M. Muilwijk, Norbert B. Koster, Jeroen Westerhout, Peter J. Kerkhof, Bastiaan W. Oostdijck, Alex F. Deutz, Wouter Mulckhuyse
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, 2017, Page(s) 78, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280356
Auteurs:
Norbert Koster, Edwin te Sligte, Alex Deutz, Freek Molkenboer, Pim Muilwijk, Peter van der Walle, Wouter Mulckhuyse, Bjorn Nijland, Peter Kerkhof, Michel van Putten
Publié dans:
Photomask Japan 2017: XXIV Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology, 2017, Page(s) 104540O
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2279025
Auteurs:
Rogier Verberk, Norbert Koster, Wilbert Staring, Edwin te Sligte
Publié dans:
33rd European Mask and Lithography Conference, 2017, Page(s) 10, ISBN 9781-510613577
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2279672
Auteurs:
Sascha Brose, Serhiy Danylyuk, Lukas Bahrenberg, Peter Loosen, Larissa Juschkin, Rainer Lebert
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, 2017, Page(s) 81, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280582
Auteurs:
Lukas Bahrenberg, Stefan Herbert, Jenny Tempeler, Aleksey Maryasov, Oskar Hofmann, Serhiy Danylyuk, Rainer Lebert, Peter Loosen, Larissa Juschkin
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VI, 2015, Page(s) 942229
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2085929
Auteurs:
Mertens, H.; Ritzenthaler, R.; Pena, V.; Santoro, G.; Kenis, K.; Schulze, A.; Dentoni Litta, E.; Chew, S.; Devriendt, K.; Chiarella, T.; Demuynck, S.; Yakimets, D.; Jang, D.; Spessot, A.; Eneman, G.; Dangol, A.; Lagrain, P.; Bender, H.; Sun, S.; Korolik, M.; Kioussis, D.; Kim, M.; Bu, K.; Chen, S.; Cogorno, M.; Devrajan, J.; Machillot, J.; Yoshida, N.; Kim, N.; Barla, K.; Mocuta, D. and Horiguchi,
Publié dans:
2017
Éditeur:
IEEE International Electron Devices Meeting - IEDM
Auteurs:
Andreas Erdmann, Peter Evanschitzky, Vicky Philipsen, Markus Bauer, Eric Hendrickx, Hazem Mesilhy
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX, 2018, Page(s) 35, ISBN 9781-510616592
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2299648
Auteurs:
Peter Evanschitzky, A. Erdmann
Publié dans:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017, 2017, Page(s) 11, ISBN 9781-510613751
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2280535
Auteurs:
Victor Soltwisch, Andreas Fischer, Christian Laubis, Christian Stadelhoff, Frank Scholze, Albrecht Ullrich
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VI, 2015, Page(s) 942213
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2085798
Auteurs:
Christian Laubis, Anton Haase, Victor Soltwisch, Frank Scholze
Publié dans:
31st European Mask and Lithography Conference, 2015, Page(s) 96610W
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2195009
Auteurs:
Anil Gunay Demirkol, Efrain Altamirano-Sánchez, IMEC (Belgium); Stephane Heraud, Nova Measuring Instruments GmbH (Germany); Stephane Godny, Anne-Laure Charley, Philippe Leray, IMEC (Belgium); Ronen Urenski, Oded Cohen, Igor Turovets, Shay Wolfling, Nova Measuring Instruments Ltd. (Israel)
Publié dans:
SPIE Advanced Lithography 2016, Numéro 2016, 2016, Page(s) 60,61
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
P. Muilwijk
Publié dans:
AVS Proceedings, Numéro 63, 2016, Page(s) "Paper #4224"
Éditeur:
AVS
Auteurs:
Edwin te Sligte, Norbert Koster, Freek Molkenboer, Alex Deutz
Publié dans:
Photomask Japan 2016: XXIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology, 2016, Page(s) 99840R
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2240302
Auteurs:
Edwin te Sligte, Norbert Koster, Freek Molkenboer, Peter van der Walle, Pim Muilwijk, Wouter Mulckhuyse, Bastiaan Oostdijck, Christiaan Hollemans, Björn Nijland, Peter Kerkhof, Michel van Putten, André Hoogstrate, Alex Deutz
Publié dans:
Photomask Technology 2016, 2016, Page(s) 998520
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2240921
Auteurs:
F. Molkenboer
Publié dans:
AVS Proceedings, Numéro 63, 2016, Page(s) "Paper #3725"
Éditeur:
AVS
Auteurs:
W. F. Clark, A. Juncker, E. Paladugu, D. Fried, C. J. Wilson, G. Pourtois, M. Gallagher, A. De Jamblinne, D. Piumi, J. Boemmels, Z. S. Tokei, D. Mocuta
Publié dans:
2016 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2016, Page(s) 43-46, ISBN 978-1-5090-0818-6
Éditeur:
IEEE
DOI:
10.1109/SISPAD.2016.7605144
Auteurs:
S. Guissi, W. F. Clark, A. Junker, J. Ervin, K. Greiner, D. Fried, B. Briggs, K. Devriendt, F. Sebaai, A. Charley, C. J. Wilson, J. Boemmels, Z. Tőkei
Publié dans:
INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE, Numéro 2017, 2017
Éditeur:
IEEE
Auteurs:
Jae Uk Lee, Johannes Vanpaemel, Ivan Pollentier, Christoph Adelmann, Houman Zahedmanesh, Cedric Huyghebaert, Marina Timmermans, Michael De Volder, Emily Gallagher
Publié dans:
Photomask Technology 2016, Numéro 99850C (25 October 2016), 2016, Page(s) 99850C
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2243019
Auteurs:
Ivan Pollentier, Jae Uk Lee, Marina Timmermans, Christoph Adelmann, Houman Zahedmanesh, Cedric Huyghebaert, Emily E. Gallagher
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, Numéro 01430L (24 March 2017), 2017, Page(s) 101430L
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2257891
Auteurs:
Vicky Philipsen, Kim Vu Luong, Laurent Souriau, Eric Hendrickx, Andreas Erdmann, Dongbo Xu, Peter Evanschitzky, Robbert W. E. van de Kruijs, Arash Edrisi, Frank Scholze, Christian Laubis, Mathias Irmscher, Sandra Naasz, Christian Reuter
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII, 2017, Page(s) 1014310
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2257929
Auteurs:
Philipsen, V.; Luong, V.; Hendrickx, E.; Erdmann, A.; Dongbo, X.; Evanschitzky, P.; van de Kruijs, R.; Edrisi, A.; Scholze, F.; Laubis, C.; Irmscher, M. and Naasz, S.
Publié dans:
2016
Éditeur:
International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
Auteurs:
Luong, V.; Philipsen, V.; Hendrickx, E.; Scholze, F.; van de Kruijs, R.; Edrisi, A.; Wood, O. and Heyns, M.
Publié dans:
2016
Éditeur:
International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
Auteurs:
L.-A. Ragnarsson, H. Dekkers, T. Schram, S. A. Chew, B. Parvais, M. Dehan, K. Devriendt, Z. Tao, F. Sebaai, C. Baerts, S. Van Elshocht, N. Yoshida, A. Phatak, C. Lazik, A. Brand, W. Clark, D. Fried, D. Mocuta, K. Barla, N. Horiguchi, A. V.-Y. Thean
Publié dans:
2015 Symposium on VLSI Technology (VLSI Technology), 2015, Page(s) T148-T149, ISBN 978-4-86348-501-3
Éditeur:
IEEE
DOI:
10.1109/VLSIT.2015.7223656
Auteurs:
Sushil Sakhare, Darko Trivkovic, Tom Mountsier, Min-Soo Kim, Dan Mocuta, Julien Ryckaert, Abdelkarim Mercha, Diederik Verkest, Aaron Thean, Mircea Dusa
Publié dans:
Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX, 2015, Page(s) 94270O
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2086100
Auteurs:
Efrain Altamirano-Sánchez, Tao S. Zheng, Anil Gunay Demirkol, Gian F. Lorusso, Toby Hopf, Jean-Christophe Everat IMEC (Belgium), William Clark, Coventor (France); Daniel Sobieski, Fung-Suong
Ou, Lam Research Corp. (United States); David Hellin, Lam Research (Belgium)
Publié dans:
SPIE Advanced Lithigraphy 2016, 2016
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
Jiangjiang (Jimmy) Gu, Dalong Zhao, Vasanth Allampalli, Daniel Faken, Ken Greiner, David M. Fried
Publié dans:
Advanced Etch Technology for Nanopatterning V, 2016, Page(s) 97820N
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2218929
Auteurs:
E. te Sligte
Publié dans:
EUVL Symposium, Numéro 2015, 2015
Éditeur:
EUVL Symposium
Auteurs:
P. Bussink
Publié dans:
SPIE Advanced Lithography Proceedings, Numéro 2016, 2016, Page(s) 9778-115
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
H. Sadeghian
Publié dans:
SPIE Advanced Lithography Proceedings, Numéro 2016, 2016
Éditeur:
SPIE
Auteurs:
E. te Sligte
Publié dans:
PTB Workshop, Numéro 2015, 2015
Éditeur:
PTB Workshop
Auteurs:
F. Molkenboer
Publié dans:
AVS Proceedings, Numéro 62, 2015, Page(s) Paper VT-WeM11
Éditeur:
AVS-62
Auteurs:
Ivan Pollentier, Johannes Vanpaemel, Jae Uk Lee, Christoph Adelmann, Houman Zahedmanesh, Cedric Huyghebaert, Emily E. Gallagher
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VII, 2016, Page(s) 977620
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2220031
Auteurs:
Emily E. Gallagher, Johannes Vanpaemel, Ivan Pollentier, Houman Zahedmanesh, Christoph Adelmann, Cedric Huyghebaert, Rik Jonckheere, Jae Uk Lee
Publié dans:
Photomask Technology 2015, 2015, Page(s) 96350X
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2199076
Auteurs:
Christian Laubis, Annett Barboutis, Christian Buchholz, Andreas Fischer, Anton Haase, Florian Knorr, Heiko Mentzel, Jana Puls, Anja Schönstedt, Michael Sintschuk, Victor Soltwisch, Christian Stadelhoff, Frank Scholze
Publié dans:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VII, 2016, Page(s) 977627
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2218902
Auteurs:
Anton Haase, Victor Soltwisch, Frank Scholze, Stefan Braun
Publié dans:
Optical Systems Design 2015: Optical Fabrication, Testing, and Metrology V, 2015, Page(s) 962804
Éditeur:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2191265
Auteurs:
Freek Molkenboer, Norbert Koster, Alfred Abutan, Alex Deutz, Hans Diesveld, Christiaan Hollemans, Andre Hoogstrate, Peter Kerkhof, Pim Muilwijk, Wouter Mulckhuyse, Bjorn Nijland, Bastiaan Oostdijck, Michel van Putten, Edwin te Sligte, Peter van der Walle, Jeroen Westerhout
Publié dans:
NEVAC Blad, Numéro 55 (3), 2017, Page(s) p 18-23, ISSN 0169-9431
Éditeur:
NEVAC
Droits de propriété intellectuelle
Numéro de demande/publication:
DE
30 2017 113 021.3
Date:
2017-12-18
Demandeur(s):
RI RESEARCH INSTRUMENTS GMBH
Numéro de demande/publication:
WO
2017102379 A1
Date:
2016-12-02
Numéro de demande/publication:
US
20170213732 A1
Date:
2017-07-27
Demandeur(s):
ASM BELGIUM NV
Numéro de demande/publication:
US
20160141176 A1
Date:
2016-05-19
Demandeur(s):
ASM BELGIUM NV
Numéro de demande/publication:
WO
2017102380 A1
Date:
2016-12-02
Numéro de demande/publication:
WO
2017153152 A1
Date:
2017-02-17
Numéro de demande/publication:
US
15222738
Date:
2016-07-28
Demandeur(s):
ASM BELGIUM NV
Numéro de demande/publication:
WO
2017102378 A1
Date:
2016-12-02
Numéro de demande/publication:
US
20160079058 A1
Date:
2016-03-17
Demandeur(s):
ASM BELGIUM NV
Numéro de demande/publication:
WO
2016055330 A1
Date:
2015-09-30
Numéro de demande/publication:
US
20160141176 A1
Date:
2016-05-19
Demandeur(s):
ASM EUROPE BV
Numéro de demande/publication:
WO
2017186486 A1
Date:
2017-04-12
Numéro de demande/publication:
WO
2017102383
Date:
2016-12-02
Numéro de demande/publication:
WO
2017125254 A1
Date:
2017-01-02
Numéro de demande/publication:
WO
2017076686
Date:
2016-10-25
Numéro de demande/publication:
WO
2016055330 A1
Date:
2015-09-30
Demandeur(s):
CARL ZEISS SMT GMBH
Numéro de demande/publication:
US
20180033606 A1
Date:
2018-02-01
Demandeur(s):
ASM BELGIUM NV
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