Metal Assisted chemical etching of Gratings for X-ray InterferometriC systems

Información del proyecto

MAGIC

Identificador del acuerdo de subvención: 727246

DOI

10.3030/727246

Proyecto cerrado

Fecha de la firma de la CE 26 Septiembre 2016

Fecha de inicio 1 Noviembre 2016

Fecha de finalización 30 Abril 2018

Financiado con arreglo a

• EXCELLENT SCIENCE - European Research Council (ERC)

Coste total

€ 149 997,00

Aportación de la UE

€ 149 997,00

Coordinado por

EIDGENOESSISCHE TECHNISCHE HOCHSCHULE ZUERICH
Switzerland

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Publicaciones

Peer reviewed articles (4)

Effect of isopropanol on gold assisted chemical etching of silicon microstructures

Autores: L. Romano, J. Vila-Comamala, K. Jefimovs, M. Stampanoni
Publicado en: Microelectronic Engineering, Edición 177, 2017, Página(s) 59-65, ISSN 0167-9317
Editor: Elsevier BV
DOI: 10.1016/j.mee.2017.02.008

High aspect ratio metal microcasting by hot embossing for X-ray optics fabrication

Autores: L. Romano, J. Vila-Comamala, M. Kagias, K. Vogelsang, H. Schift, M. Stampanoni, K. Jefimovs
Publicado en: Microelectronic Engineering, Edición 176, 2017, Página(s) 6-10, ISSN 0167-9317
Editor: Elsevier BV
DOI: 10.1016/j.mee.2016.12.032

Hot embossing of Au- and Pb-based alloys for x-ray grating fabrication

Autores: Lucia Romano, Joan Vila-Comamala, Helmut Schift, Marco Stampanoni, Konstantins Jefimovs
Publicado en: Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena, Edición 35/6, 2017, Página(s) 06G302, ISSN 2166-2754
Editor: AVS Science and Technology Society
DOI: 10.1116/1.4991807

Towards sub-micrometer high aspect ratio X-ray gratings by atomic layer deposition of iridium

Autores: Joan Vila-Comamala, Lucia Romano, Vitaliy Guzenko, Matias Kagias, Marco Stampanoni, Konstantins Jefimovs
Publicado en: Microelectronic Engineering, Edición 192, 2018, Página(s) 19-24, ISSN 0167-9317
Editor: Elsevier BV
DOI: 10.1016/j.mee.2018.01.027

Conference proceedings (1)

High-aspect ratio silicon structures by displacement Talbot lithography and Bosch etching

Autores: Konstantins Jefimovs, Lucia Romano, Joan Vila-Comamala, Matias Kagias, Zhentian Wang, Li Wang, Christian Dais, Harun Solak, Marco Stampanoni
Publicado en: Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV, 2017, Página(s) 101460L
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.2258007