Metal Assisted chemical etching of Gratings for X-ray InterferometriC systems

Informazioni relative al progetto

MAGIC

ID dell’accordo di sovvenzione: 727246

DOI

10.3030/727246

Progetto chiuso

Data della firma CE 26 Settembre 2016

Data di avvio 1 Novembre 2016

Data di completamento 30 Aprile 2018

Finanziato da

• EXCELLENT SCIENCE - European Research Council (ERC)

Costo totale

€ 149 997,00

Contributo UE

€ 149 997,00

Coordinato da

EIDGENOESSISCHE TECHNISCHE HOCHSCHULE ZUERICH
Switzerland

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Pubblicazioni

Peer reviewed articles (4)

Effect of isopropanol on gold assisted chemical etching of silicon microstructures

Autori: L. Romano, J. Vila-Comamala, K. Jefimovs, M. Stampanoni
Pubblicato in: Microelectronic Engineering, Numero 177, 2017, Pagina/e 59-65, ISSN 0167-9317
Editore: Elsevier BV
DOI: 10.1016/j.mee.2017.02.008

High aspect ratio metal microcasting by hot embossing for X-ray optics fabrication

Autori: L. Romano, J. Vila-Comamala, M. Kagias, K. Vogelsang, H. Schift, M. Stampanoni, K. Jefimovs
Pubblicato in: Microelectronic Engineering, Numero 176, 2017, Pagina/e 6-10, ISSN 0167-9317
Editore: Elsevier BV
DOI: 10.1016/j.mee.2016.12.032

Hot embossing of Au- and Pb-based alloys for x-ray grating fabrication

Autori: Lucia Romano, Joan Vila-Comamala, Helmut Schift, Marco Stampanoni, Konstantins Jefimovs
Pubblicato in: Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena, Numero 35/6, 2017, Pagina/e 06G302, ISSN 2166-2754
Editore: AVS Science and Technology Society
DOI: 10.1116/1.4991807

Towards sub-micrometer high aspect ratio X-ray gratings by atomic layer deposition of iridium

Autori: Joan Vila-Comamala, Lucia Romano, Vitaliy Guzenko, Matias Kagias, Marco Stampanoni, Konstantins Jefimovs
Pubblicato in: Microelectronic Engineering, Numero 192, 2018, Pagina/e 19-24, ISSN 0167-9317
Editore: Elsevier BV
DOI: 10.1016/j.mee.2018.01.027

Conference proceedings (1)

High-aspect ratio silicon structures by displacement Talbot lithography and Bosch etching

Autori: Konstantins Jefimovs, Lucia Romano, Joan Vila-Comamala, Matias Kagias, Zhentian Wang, Li Wang, Christian Dais, Harun Solak, Marco Stampanoni
Pubblicato in: Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV, 2017, Pagina/e 101460L
Editore: SPIE
DOI: 10.1117/12.2258007