Description du projet
Une nouvelle technique de nanolithographie promet de dessiner des traits à l’échelle nanométrique avec une résolution plus élevée
Les succès rencontrés dans le domaine des nanotechnologies dépendent de la capacité à concevoir un ensemble de structures à l’échelle nanométrique qui peuvent être utilisées dans d’autres domaines scientifiques. Or, de nombreuses découvertes scientifiques ne sortent pas du laboratoire. Cela est dû en grande partie aux limites de la technologie en matière de capacité à fabriquer des structures de surface complexes et précises de l’ordre du nanomètre avec une résolution satisfaisante et sur une grande surface. Le projet NanoGraphy, financé par l’UE, va faire la démonstration d’une nouvelle technique de nanofabrication qui exploitera les réactions photocatalytiques multiélectroniques hautement contrôlées dirigées par un champ plasmonique. Les progrès accomplis dans le cadre du projet auront d’importantes répercussions sur la nanolithographie à haute résolution et offriront plus de possibilités pour sortir les avancées en matière de nanotechnologie du laboratoire à la conquête de la société.
Objectif
The emergence of nanoscience and nanotechnology, with envisioned applications spanning from nano-optics and nano-photonics, to plasmonics and nano-electronics, depends on the capability to fabricate a variety of nanometre-scale structures. Despite the impressive development in these fields, breakthroughs remain in the laboratory, largely due to technological limitations in the ability to manufacture complex and accurate nanometer-resolved surface patterns, with satisfying resolution and on large area. The development of a new fabrication methodology is thus required. We propose to develop and demonstrate a novel technique for nanoscale photolithography that would bring 21st century nanotechnology breakthroughs out of the lab and into the public sphere. This technique is based on a chemical mechanism recently discovered in my lab. We revealed that multi-electron photocatalytic reactions could be directed to progress exclusively under a plasmonic field, in a controlled and highly localized manner. In this proposal we describe how this phenomenon may be leveraged for pattering, and high-resolution nano lithography. The project is divided into 3 stages: 1. Fundamentals of the underlying physical phenomena 2. Probe enhanced photocatalytic writing 3. Photolithography via plasmon enhanced photocatalytic mask At the end of the 5-year project we expect to be at a position to demonstrate our platform for lithographic writing of an interesting nano pattern of high quality, and establish the potential of this methodology as a powerful instrument in the nanotechnology researcher’s toolbox. I strongly believe that successful implementation of this project would fundamentally change the way in which nanotechnology affects modern life.
Champ scientifique
Programme(s)
Thème(s)
Régime de financement
ERC-STG - Starting GrantInstitution d’accueil
32000 Haifa
Israël