Descrizione del progetto
La nuova tecnica di nanolitografia promette di disegnare caratteristiche in scala nanometrica con una risoluzione più elevata
Il successo nel campo delle nanotecnologie dipende dalla capacità di progettare una varietà di strutture su scala nanometrica che possono essere utilizzate in altri campi scientifici. Tuttavia, molte scoperte scientifiche rimangono in laboratorio. Ciò è dovuto in gran parte alle limitazioni tecnologiche nella capacità di produrre modelli di superficie nanometrici complessi e precisi, con una risoluzione soddisfacente e su una vasta area. Il progetto NanoGraphy, finanziato dall’UE, sottoporrà a dimostrazione una nuova tecnica di nano-fabbricazione che farà leva su reazioni fotocatalitiche multielettriche altamente controllate e guidate da un campo plasmonico. Gli sviluppi del progetto avranno importanti implicazioni per la nanolitografia ad alta risoluzione, portando le scoperte della nanotecnologia fuori dal laboratorio e nella società.
Obiettivo
The emergence of nanoscience and nanotechnology, with envisioned applications spanning from nano-optics and nano-photonics, to plasmonics and nano-electronics, depends on the capability to fabricate a variety of nanometre-scale structures. Despite the impressive development in these fields, breakthroughs remain in the laboratory, largely due to technological limitations in the ability to manufacture complex and accurate nanometer-resolved surface patterns, with satisfying resolution and on large area. The development of a new fabrication methodology is thus required. We propose to develop and demonstrate a novel technique for nanoscale photolithography that would bring 21st century nanotechnology breakthroughs out of the lab and into the public sphere. This technique is based on a chemical mechanism recently discovered in my lab. We revealed that multi-electron photocatalytic reactions could be directed to progress exclusively under a plasmonic field, in a controlled and highly localized manner. In this proposal we describe how this phenomenon may be leveraged for pattering, and high-resolution nano lithography. The project is divided into 3 stages: 1. Fundamentals of the underlying physical phenomena 2. Probe enhanced photocatalytic writing 3. Photolithography via plasmon enhanced photocatalytic mask At the end of the 5-year project we expect to be at a position to demonstrate our platform for lithographic writing of an interesting nano pattern of high quality, and establish the potential of this methodology as a powerful instrument in the nanotechnology researcher’s toolbox. I strongly believe that successful implementation of this project would fundamentally change the way in which nanotechnology affects modern life.
Campo scientifico
Programma(i)
Argomento(i)
Meccanismo di finanziamento
ERC-STG - Starting GrantIstituzione ospitante
32000 Haifa
Israele