Projektbeschreibung
Neues Nanolithografieverfahren verspricht nanometerkleine Strukturen in höherer Auflösung
Der Erfolg auf dem Gebiet der Nanotechnologie hängt von der erfolgreichen technischen Entwicklung einer Vielzahl von Strukturen im Nanometerbereich ab, die auch auf anderen wissenschaftlichen Gebieten zum Einsatz kommen können. Viele wissenschaftliche Durchbrüche schaffen es jedoch nicht, das Labor zu verlassen. Grund dafür sind vor allem die technischen Grenzen bei der Erzeugung komplexer und genauer Oberflächenstrukturen mit zufriedenstellender Auflösung im Nanometerbereich und auf einer großen Fläche. Das EU-finanzierte Projekt NanoGraphy wird ein neuartiges Nanofertigungsverfahren vorführen, bei dem genau gesteuerte photokatalytische Mehrelektronenreaktionen unter Führung eines plasmonischen Felds ausgenutzt werden. Die Projektentwicklungen werden bedeutende Auswirkungen auf die hochauflösende Nanolithografie haben. Durchbrüche im Bereich der Nanotechnologie werden endlich das Labor verlassen und in die Gesellschaft eingebracht werden können.
Ziel
The emergence of nanoscience and nanotechnology, with envisioned applications spanning from nano-optics and nano-photonics, to plasmonics and nano-electronics, depends on the capability to fabricate a variety of nanometre-scale structures. Despite the impressive development in these fields, breakthroughs remain in the laboratory, largely due to technological limitations in the ability to manufacture complex and accurate nanometer-resolved surface patterns, with satisfying resolution and on large area. The development of a new fabrication methodology is thus required. We propose to develop and demonstrate a novel technique for nanoscale photolithography that would bring 21st century nanotechnology breakthroughs out of the lab and into the public sphere. This technique is based on a chemical mechanism recently discovered in my lab. We revealed that multi-electron photocatalytic reactions could be directed to progress exclusively under a plasmonic field, in a controlled and highly localized manner. In this proposal we describe how this phenomenon may be leveraged for pattering, and high-resolution nano lithography. The project is divided into 3 stages: 1. Fundamentals of the underlying physical phenomena 2. Probe enhanced photocatalytic writing 3. Photolithography via plasmon enhanced photocatalytic mask At the end of the 5-year project we expect to be at a position to demonstrate our platform for lithographic writing of an interesting nano pattern of high quality, and establish the potential of this methodology as a powerful instrument in the nanotechnology researcher’s toolbox. I strongly believe that successful implementation of this project would fundamentally change the way in which nanotechnology affects modern life.
Wissenschaftliches Gebiet
Programm/Programme
Thema/Themen
Finanzierungsplan
ERC-STG - Starting GrantGastgebende Einrichtung
32000 Haifa
Israel