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CORDIS - Forschungsergebnisse der EU
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Inhalt archiviert am 2024-05-21

Expanding thermal plasma deposition of silicon dioxide films for microelectronic devices.

Wissenschaftliches Gebiet (EuroSciVoc)

Programm/Programme

Thema/Themen

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Aufforderung zur Vorschlagseinreichung

Daten nicht verfügbar

Finanzierungsplan

RGI - Research grants (individual fellowships)

Koordinator

EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
EU-Beitrag
Keine Daten
Adresse
Den Dolech 2
5600 MB EINDHOVEN
Niederlande
Gesamtkosten
Keine Daten