Skip to main content

Article Category

Article available in the folowing languages:

Litografía ultravioleta extrema

En los últimos 30 años ha prevalecido una regla fundamental: el poder de los semiconductores se duplica cada 18 meses. Este principio, conocido como ley de Moore, ilustra el rápido crecimiento de los avances tecnológicos en la industria de los semiconductores. Entre los campos de actividad de esta industria destaca la fabricación de circuitos integrados tales como chips de memoria y microprocesadores. Con el proyecto que aquí se describe se llevan hasta nuevos extremos los métodos utilizados en este sector industrial.

Tecnologías industriales

La ley de Moore, además de evidenciar el nivel de progreso alcanzado por el sector de semiconductores, deja muy clara igualmente la intensidad de la competencia entre empresas. Ineludiblemente las limitaciones físicas y de ingeniería pronosticadas irán restando consistencia al ritmo de avance. Por si fuera poco, se está imponiendo la necesidad de captar ingentes inversiones. Para asentar su actividad comercial a los fabricantes de circuitos integrados no les queda otro remedio que seguir por la vía del desarrollo de productos y procesos. En este contexto, un consorcio de industrias europeas ha puesto en marcha un programa de investigación y desarrollo para la evaluación de la litografía ultravioleta extrema. La litografía, en el marco de la producción de circuitos integrados, constituye un elaborado proceso de impresión de obleas de silicio. Aunque comparte principios con el proceso fotolitográfico ordinario, la producción de microprocesadores avanzados hace pesar grandes restricciones y exige la reforma de procedimientos. La litografía óptica ha sido el método de fabricación en volumen utilizado últimamente; se caracteriza por el empleo de luz visible o ultravioleta. Cuanto más corta sea la longitud de onda de luz utilizada, menores serán los circuitos que puedan imprimirse. Partiendo de 436 nanómetros (azul) las longitudes de onda han bajado hasta el ultravioleta situado por los 248 nanómetros. Este proyecto se dedica a solventar los problemas derivados de la utilización de luz ultravioleta extrema, mientras augura la comercialización de este tipo de litografía antes de 2008. La luz que se utilice será de 70 nanómetros para abajo. Al mejorar las tecnologías de producción, los fabricantes de circuitos integrados tendrán la posibilidad de desarrollar productos nuevos y mantenerse competitivos en el mercado mundial. Además, los socios del proyecto, dispuestos a garantizar la viabilidad de los conceptos del sistema, están diseñando el equipo en módulos de modo que, conforme vayan aumentando los requisitos tecnológicos, la industria pueda mejorar sus sistemas sin dejar de conservar intacta la inversión de capital original.

Descubra otros artículos del mismo campo de aplicación