MEDEA+ establece un comité asesor europeo sobre litografía sin máscara
MEDEA+, el programa paneuropeo iniciado por la industria para la investigación colectiva y el desarrollo de la microelectrónica dentro de Eureka, ha establecido un comité asesor europeo sobre litografía sin máscara. En 1965, Gordon Moore, confundador de Intel, observó que el número de transistores por pulgada cuadrada (6,45 cm2) en los circuitos integrados se había duplicado cada año desde la invención del circuito integrado. Moore previó que esta tendencia continuaría en el futuro, y en los años siguientes, aunque el ritmo se ralentizó un poco, la densidad de los datos se ha duplicado cada 18 meses aproximadamente. La mayoría de los expertos, incluido el propio Moore, confían en que la Ley de Moore se mantenga vigente durante al menos otras dos décadas. La teoría viene impulsada por la litografía, que hasta ahora ha permitido reducir un 30 por ciento el tamaño de las dimensiones impresas cada dos años. La máscara constituye un elemento fundamental en esta tecnología, pero el aumento de los costes de las máscaras en los últimos años han limitado la viabilidad económica de las nuevas generaciones de la tecnología. Varios consorcios europeos desarrollan en la actualidad herramientas para la definición de patrones sin máscara. Las diferentes propuestas utilizan la óptica de partículas o fotones. También se comprueban varias ideas sobre dispositivos de modulación de los haces. El comité asesor, EAB-ML2, actuará como plataforma para el intercambio de ideas entre proveedores y usuarios, y explorará los posibles escenarios de aplicación para la implementación de la litografía sin máscara. 'Los conocimientos y las habilidades que se necesitan para crear herramientas de litografía sin máscara están disponibles en Europa,' dijo Mart Graef, presidente de EAB-ML2. 'La participación de los principales fabricantes de semiconductores y las principales empresas de equipos semiconductores en Europa garantizará que las soluciones ofrecidas se ajusten a los requisitos de la industria del CI [circuito integrado]. Ésta es la cuestión más importante que abordaremos en EAB-ML2.' El vicepresidente de MEDEA+, Peter Tischer, destacó la importancia de la investigación en el campo de la litografía: 'Consideramos que la litografía sin máscara constituye una solución alentadora para los productos con un bajo volumen de CI, y quizá también para la fabricación de prototipos de los nuevos diseños. [El comité asesor] ofrece la oportunidad de identificar los problemas técnicos comunes y abordarlos mediante el trabajo conjunto en el marco del programa MEDEA-.'