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Contenuto archiviato il 2023-02-27

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MEDEA+ crea un consiglio consultivo europeo sulla litografia senza maschera

Un consiglio consultivo europeo sulla litografia senza maschera è stato creato da MEDEA+, il programma paneuropeo avviato dall'industria per la ricerca cooperativa e lo sviluppo nel settore della microelettronica nell'ambito dell'Iniziativa Eureka. Nel 1965, Gordon Moore, co...

Un consiglio consultivo europeo sulla litografia senza maschera è stato creato da MEDEA+, il programma paneuropeo avviato dall'industria per la ricerca cooperativa e lo sviluppo nel settore della microelettronica nell'ambito dell'Iniziativa Eureka. Nel 1965, Gordon Moore, cofondatore di Intel, aveva notato che il numero di transistor per pollice quadrato nei circuiti integrati era andato raddoppiando ogni anno da quando tali circuiti erano stati inventati, ed aveva predetto che tale tendenza si sarebbe mantenuta nell'immediato futuro. Negli anni successivi il ritmo ha subito un lieve rallentamento, ma la densità di dati è andata raddoppiando ogni diciotto mesi circa. La maggior parte degli esperti, tra cui lo stesso Moore, pensano che la Legge di Moore continuerà ad imperare per almeno altri due decenni. La teoria è guidata dalla litografia, che fino ad ora ha permesso una diminuzione del 30% ogni due anni delle dimensioni stampate. La maschera è una componente vitale di questa tecnologia, ma i crescenti costi delle maschere negli ultimi anni hanno creato seri ostacoli alla fattibilità economica delle tecnologie di nuova generazione. Vari consorzi europei stanno attualmente sviluppando strumenti per la definizione di modelli privi di maschera. Diversi approcci fanno uso dell'ottica delle particelle o dei fotoni. Vengono anche testate varie idee di dispositivi a modulazione di fascio. Il consiglio consultivo, EAB-ML2, servirà da piattaforma per lo scambio di idee tra fornitori e utenti, studiando al tempo stesso scenari d'applicazione per l'implementazione della litografia senza maschera. 'Le capacità e le conoscenza necessarie per creare strumenti per la litografia senza maschera sono disponibili in Europa', ha detto Mart Graef, presidente di EAB-ML2. 'L'implicazione dei principali fabbricanti e produttori di semiconduttori e apparecchiature a semiconduttori europei garantirà che le soluzioni fornite siano modulate sulle esigenze dell'industria dei circuiti integrati. È questo il punto più importante che verrà gestito dal consiglio EAB-ML2'. Il vicepresidente di MEDEA+, Peter Tischer, ha sottolineato l'importanza della ricerca sulla litografia: 'Noi riteniamo che la litografia senza maschera sia una soluzione promettente per bassi volumi di prodotti CI (circuiti integrati), e magari anche per la prototipazione di nuove progettazioni. [Il consiglio consultivo] offre la possibilità di identificare le sfide tecniche comuni e risolverle lavorando in collaborazione con il programma MEDEA+'.