Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski polski
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS

Article Category

Zawartość zarchiwizowana w dniu 2023-02-27

Article available in the following languages:

MEDEA+ zaklada europejska rade doradcza dla bezmaskowych litografii

MEDEA+ założyła europejską radę konsultacyjną na potrzeby litografii bez użycia masek. MEDEA+ to paneuropejski program zainicjowany przez przemysł, realizowany w celu wspólnych badań i rozwoju mikroelektroniki w ramach agencji Eureka. W roku 1965 Gordon Moore, współzałożycie...

MEDEA+ założyła europejską radę konsultacyjną na potrzeby litografii bez użycia masek. MEDEA+ to paneuropejski program zainicjowany przez przemysł, realizowany w celu wspólnych badań i rozwoju mikroelektroniki w ramach agencji Eureka. W roku 1965 Gordon Moore, współzałożyciel firmy Intel, zauważył, że liczba tranzystorów na cal kwadratowy w układach scalonych od czasu wynalezienia obwodu scalonego podwajała się co roku. Zapowiedział, że trend ten będzie się utrzymywał w dającej się przewidzieć przyszłości. W następnych latach tempo zwiększania się liczby tranzystorów nieco zwolniło, ale gęstość danych podwajała się średnio co 18 miesięcy. Większość ekspertów, w tym sam Moore, oczekuje że prawo Moore'a będzie obowiązywało jeszcze przez co najmniej dwie kolejne dekady. Teoria jest oparta na litografii, która jak dotąd umożliwiała co dwa lata zmniejszenie o 30 procent rozmiaru wykorzystywanej powierzchni. Istotnym elementem tej technologii jest maska, ale zwiększające się w ostatnich latach koszty masek wywierały presję na ekonomiczną żywotność nowych generacji technologii. Kilka europejskich konsorcjów rozwija obecnie narzędzia do bezmaskowego odrysowania wzorów. W zależności od rozwiniętej metody wykorzystuje się przy tym albo optykę kwantową albo fotony. Testuje się też wiele pomysłów dotyczących urządzeń modulujących wiązkę. Rada konsultacyjna EAB-ML2 ma działać jako platforma wymiany pomysłów pomiędzy dostawcami i użytkownikami, badając jednocześnie scenariusze wprowadzenia bezmaskowych metod litografii. 'Rzeczoznawstwo i umiejętności potrzebne do stworzenia narzędzi bezmaskowej litografii są dostępne w Europie' powiedział Mart Graef, przewodniczący EAB-ML2. 'Zaangażowanie europejskich czołowych producentów półprzewodników i firm produkujących urządzenia półprzewodnikowe zapewni, że dostarczone rozwiązania zostaną dopasowane do wymagań przemysłu IC [integrated circuit - układ scalony]. Jest to najważniejsza kwestia, na jaką będziemy zwracać uwagę w pracach EAB-ML2.' Wiceprzewodniczący MEDEA+ Peter Tischer podkreślił znaczenie badań nad litografią: 'Oceniamy, że bezmaskowe metody litografii są obiecującym rozwiązaniem dla produktów IC o małych wymiarach, może też dla prototypów nowych projektów. [Rada konsultacyjna] oferuje możliwość określenia wspólnych wyzwań technicznych oraz wspólną pracę nad nimi w ramach programu MEDEA.'

Moja broszura 0 0