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Progetto finanziato dall'UE sviluppa un efficace dispositivo di nanoimprinting

Ricercatori finlandesi e francesi impegnati in un progetto finanziato dall'UE hanno sviluppato un dispositivo di nanoimprinting per la produzione in massa di celle solari e di piattaforme di bioanalisi in nanoscala. Lo stepper per nanoimprinting utilizza come stampo un chip ...

Ricercatori finlandesi e francesi impegnati in un progetto finanziato dall'UE hanno sviluppato un dispositivo di nanoimprinting per la produzione in massa di celle solari e di piattaforme di bioanalisi in nanoscala. Lo stepper per nanoimprinting utilizza come stampo un chip di silicio con un disegno in rilievo (pattern) che viene copiato su uno strato di polimero tramite imprinting. Lo strato di polimero, costituito da termoplastica o materiale trattato con raggi UV, può essere utilizzato per la riproduzione su vaste aree di piccole geometrie in scala sub-100 nm. Secondo i ricercatori, lo stepper può essere adatto al nanopatterning di materiali ottici ed elettronici e biomateriali, nonché per la riproduzione tridimensionale. Il nuovo stepper utilizza la litografia imprinting «step and stamp» (Step and Stamp Imprint Lithography, SSIL), una versione su scala ultraridotta del processo di incisione, utilizzato da decenni, consistente nell'impressione di un master, o stampo, su un materiale di soffice consistenza per creare precisi pattern. In passato, per la stampa di nanogeometrie, veniva utilizzata la litografia a fascio elettronico. Benché efficace per la produzione di disegni di piccolissime dimensioni, questa tecnica è considerata molto più lenta rispetto alla SSIL ed incapace di consentire processi su larga scala. I realizzatori dello stepper ritengono inoltre che esso offra un'alternativa molto meno costosa rispetto ad altre attrezzature per la microelettronica che producono linee di ampiezza sub-100 nm. Inoltre, le tecniche tradizionali non sono facilmente adattabili alla stampa su nuovi materiali funzionali o con geometrie in 3D. Lo stepper è stato sviluppato dai ricercatori del centro di ricerca tecnica finlandese VTT e dall'azienda francese SUSS MicroTec S.A.S nell'ambito del progetto «Nuove tecniche di nanopatterning» (Emerging Nanopatterning Methods), finanziato dal Sesto programma quadro (6PQ) e mirato alla standardizzazione dei processi di nanoimprinting e alla creazione di una libreria di processo. Nel progetto rientra anche l'elaborazione di tecniche «roll-to-roll» per la produzione di nanogeometrie. Una stampante progettata e già utilizzata dal centro di ricerca VTT abbina la tecnica del nanopatterning alla stampa gravure e a tecniche flexo in una sola sequenza di processo.

Paesi

Finlandia, Francia

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