Contrôle qualité des nanocircuits
La lithographie par nano-impression (NIL) est une nouvelle technique de production de nanocircuits électroniques. Elle permet de produire en grand nombre, et de manière rentable, de fines structures (de l'ordre du nanomètre) sur de grandes zones. Grâce à cette technique, la copie inversée d'un modèle figurant sur une estampeuse est générée en appliquant cette dernière sur un polymère chauffé au-dessus de la température de transition vitreuse puis en la refroidissant et en la retirant. Les structures modèles sont reproduites après métallisation de l'empreinte et élimination d'une zone de substrat. Pour tester la qualité des impressions finales, l'université de Duisburg a mis au point, en partenariat avec un fabricant de microélectronique, une technique de mesure optique. Le polymère habituellement utilisé pour les modèles de l'ordre du nanomètre est abandonné au profit de polymères enrichis d'étiquettes fluorescentes. Une fois les circuits créés par lithographie par nano-impression, des échantillons d'impression sont analysés. L'intensité de la fluorescence est calculée pour chaque partie de la surface, relevant l'adhésion ainsi que les dépôts de polymères. Cette analyse permet de connaître les conditions dans lesquelles se déroule le processus complet et de valider la qualité des produits finaux. Cette méthode est donc très utile pour contrôler la qualité des impressions. Dans le même temps, elle n'occasionne pas de hausse importante des coûts de production. Les partenaires travaillent actuellement au développement d'un logiciel qui automatisera l'analyse. Ainsi, le procédé gagnera encore en rapidité, convivialité et fiabilité.
