Control de calidad para nanocircuitos
La litografía por nanoimpresión es una técnica introducida recientemente que se utiliza para la producción de nanocircuitos electrónicos. Ofrece una forma única y rentable de producir de forma masiva estructuras finas en grandes áreas con dimensiones en el rango nanométrico. En un proceso de litografía por nanoimpresión se puede generar una copia invertida de un motivo presionando un sello en un polímero calentado por encima de las temperaturas de transición vítrea, tras lo cual se enfría y retira el sello. Las estructuras del motivo quedan reproducidas una vez que se han efectuado la subsiguiente metalización de la impresión y el despegue del sustrato. Para comprobar la calidad de los productos de impresión finales, la Universidad de Duisburgo, en cooperación con un fabricante de microelectrónica, ha desarrollado una técnica de medición óptica. En lugar del polímero normal empleado para los motivos de escala nanométrica, se utilizan polímeros enriquecidos con etiquetas fluorescentes. Cuando los circuitos se han sellado, se escanean muestras de impresión y se calcula la intensidad de fluorescencia para cada parte de la superficie, con lo que se revelan la adhesión y los depósitos locales de polímeros. Este análisis proporciona información sobre las condiciones del proceso y un sistema de validación de la calidad de los productos finales. Este método no encarece de forma importante la producción y proporciona una herramienta útil para el examen rutinario de la calidad de las impresiones. Actualmente los socios están trabajando en el desarrollo del software encargado de automatizar el proceso de escaneo de forma que el método sea aún más rápido, más fácil de usar y más confiable.
