Controllo della qualità dei nanocircuiti
La nanolitografia (NIL, Nano Imprint Lithography) è una tecnologia recente e relativamente economica, impiegata nella produzione di nanocircuiti elettronici, che consente la deposizione di strutture finissime in vaste aree di dimensioni estremamente ridotte, sino all'ordine dei nanometri. In un procedimento NIL viene generata la copia inversa di una matrice, premendo quest'ultima su una base polimerica riscaldata a temperatura maggiore di quella di transizione del vetro; successivamente, la matrice viene raffreddata e rilasciata. Le strutture della matrice vengono riprodotte dopo la metallizzazione dell'impronta e l'asportazione del substrato. Per controllare la qualità dei prodotti finali stampati, l'Università di Duisburgo ha sviluppato, in collaborazione con un produttore di microcircuiti elettronici, una particolare tecnica di misure ottiche, nella quale si utilizzano, per le matrici su scala nanometrica, polimeri arricchiti con etichette fluorescenti. Una volta stampati i circuiti, i campioni delle impronte vengono ripresi con lo scanner e l'intensità della fluorescenza viene calcolata per ogni parte della superficie, rivelando sia l'adesione che i depositi locali di polimero. Tale analisi fornisce informazioni sulle condizioni in cui si svolge il procedimento e consente la validazione della qualità dei prodotti finali. Questo metodo non aumenta significativamente i costi di produzione e, al tempo stesso, offre un utile strumento per l'ordinario controllo della qualità delle impronte. L'università e l'azienda sono impegnate nello sviluppo del software che automatizzerà il procedimento di scansione, rendendo il metodo ancora più veloce, facile da usare e affidabile.
