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Rare Earth Oxide Atomic Layer Deposition for Innovation in Electronics

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Améliorer les composants de l'électronique grand public

En matière d'électronique grand public, la tendance est à la miniaturisation d'appareils toujours plus puissants, ce qui impose d'améliorer les matériaux et les processus. Le projet Realise s'est attaqué à cette tâche, en utilisant les éléments chimiques de la catégorie des terres rares.

La technologie progresse à un rythme frénétique, surtout dans l'industrie des semi-conducteurs. Pour que l'Europe garde sa place au premier plan de ce secteur important, elle doit investir dans la recherche et le développement. Le projet Realise («Rare earth oxide atomic layer deposition for innovation in electronics») a ainsi été financé par l'UE en vue de faire progresser le dépôt de couche atomique (ALD). Le but était d'utiliser cette technique pour créer sur les substrats adéquats des couches très minces (quelques nanomètres) de terre rare. Ces éléments chimiques ont l'avantage d'une constante diélectrique très élevée, ce qui est en effet rare pour des semi-conducteurs. La réussite des expériences en laboratoire a conduit à un prototype commercialement viable. Le nouveau processus a alors été appliqué à la production de divers circuits mémoire et condensateurs. Les membres du consortium Realise ont grandement bénéficié de leur participation au projet. L'expertise a été développée localement, et l'innovation a été protégée par plusieurs brevets. Plusieurs conférences et publications ont visé le monde de la recherche.

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