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Contenuto archiviato il 2024-05-29

Rare Earth Oxide Atomic Layer Deposition for Innovation in Electronics

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Migliorare la base dell'elettronica di consumo

La tendenza dell'elettronica di consumo a creare dispositivi più piccoli ma più potenti richiede un miglioramento della qualità di materiali e processi. Il progetto Realise ha sfruttato gli elementi delle terre rare per raggiungere questo obiettivo.

Tecnologie industriali icon Tecnologie industriali

La tecnologia progredisce con un ritmo frenetico. Questo è vero in particolare nell'industria dei semiconduttori. Per mantenere la posizione dominante dell'Europa in questo importante settore sono necessari notevoli investimenti in ricerca e sviluppo. Il progetto Realise (Rare earth oxide atomic layer deposition for innovation in electronics) ha ottenuto i finanziamenti UE per far progredire la deposizione di strati atomici (ALD). L'obiettivo era usare ALD per creare film estremamente sottili, in scala nanometrica, di elementi delle terre rare su substrati adatti. Gli elementi delle terre rare offrono una permettività estremamente elevata, una proprietà rara nel campo dei semiconduttori. Grazie al successo degli esperimenti in laboratorio è stato creato un prototipo realizzabile a condizioni commerciali. Il nuovo processo è stato poi applicato per produrre una serie di chip di memoria e condensatori. I membri del consorzio Realise hanno tratto enorme vantaggio dalla partecipazione al progetto. Le competenze sono state sviluppate a livello locale, mentre l'innovazione è stata protetta con diversi brevetti e la comunità di ricerca ha partecipato con una serie di conferenze e pubblicazioni.

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