14 Anstrom CMOS IC technology

Informations projet

14ACMOS

N° de convention de subvention: 101096772

DOI

10.3030/101096772

Date de signature de la CE 27 Novembre 2022

Date de début 1 Decembre 2022

Date de fin 31 Mai 2026

Financé au titre de

• Digital, Industry and Space

Coût total

€ 94 640 401,81

Contribution de l’UE

€ 21 834 542,06

Coordonné par

ASML NETHERLANDS B.V.
Netherlands

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Les liens vers les livrables et les publications des projets du 7e PC, ainsi que les liens vers certains types de résultats spécifiques tels que les jeux de données et les logiciels, sont récupérés dynamiquement sur OpenAIRE .

Publications

Other (1)

RGA developments at TNO

Auteurs: Koops R.
Publié dans: EVC-17, 2024
Éditeur: 17th European Vacuum Conference (EVC-17)

Peer reviewed articles (5)

Reference-free x-ray fluorescence analysis with a micrometer-sized incident beam

Auteurs: Philipp Hönicke, André Wählisch, Rainer Unterumsberger, Burkhard Beckhoff, Janusz Bogdanowicz, Anne-Laure Charley, Hans Mertens, Névine Rochat, Jean-Michel Hartmann, Narciso Giambacorti
Publié dans: Nanotechnology, Numéro 35, 2024, ISSN 0957-4484
Éditeur: IOP Publishing
DOI: 10.1088/1361-6528/AD3AFF

Machine Learning‐Accelerated Reconstruction of Periodic Nanostructures with X‐ray Fluorescence Spectroscopy Methods

Auteurs: Vinh‐Binh Truong, Analía Fernández Herrero, Kas Andrle, Victor Soltwisch, Philipp Hönicke
Publié dans: Advanced Materials Interfaces, Numéro 12, 2025, ISSN 2196-7350
Éditeur: Wiley
DOI: 10.1002/ADMI.202400898

Hybrid approach to reconstruct nanoscale grating dimensions using scattering and fluorescence with soft X-rays

Auteurs: Leonhard M. Lohr, Richard Ciesielski, Vinh-Binh Truong, Victor Soltwisch
Publié dans: Nanoscale, Numéro 17, 2025, ISSN 2040-3364
Éditeur: Royal Society of Chemistry (RSC)
DOI: 10.1039/D4NR04580G

Interface sharpness in stacked thin film structures: a comparison of soft X-ray reflectometry and transmission electron microscopy

Auteurs: Richard Ciesielski, Janusz Bogdanowicz, Roger Loo, Yosuke Shimura, Antonio Mani, Christoph Mitterbauer, Michael Kolbe, Victor Soltwisch
Publié dans: Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology, Numéro 23, 2024, ISSN 2708-8340
Éditeur: SPIE-Intl Soc Optical Eng
DOI: 10.1117/1.JMM.23.4.041405

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

Auteurs: I.-Y. Liu; L. Van Winckel; L. Boakes; M. Garcia Bardon; C. Rolin; L.-Å. Ragnarsson
Publié dans: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 2024, ISSN 0894-6507
Éditeur: IEEE
DOI: 10.1109/TSM.2024.3408926

Conference proceedings (6)

Actualizing EUV mask model during a reticle's life through TEM/EDX analysis

Auteurs: Rik Jonckheere, Olivier Richard, Vicky Philipsen, Eva Nerke
Publié dans: Photomask Technology 2025, 2025
Éditeur: SPIE
DOI: 10.1117/12.3073263

Soft x-ray reflectometry for the inspection of interlayer roughness in stacked thin film structures

Auteurs: Richard Ciesielski, Roger Loo, Yosuke Shimura, Janusz Bogdanowicz, Antonio Mani, Christoph Mitterbauer, Vinh-Binh Truong, Michael Kolbe, Victor Soltwisch
Publié dans: Metrology, Inspection, and Process Control XXXVIII, 2024
Éditeur: SPIE
DOI: 10.1117/12.3009953

Novel metrology for mask degradation: IR-AFM, XPS depth profiling and HAXPES

Auteurs: Véronique de Rooij, Shriparna Mukherjee, Chien-Ching Wu, Rob P. Ebeling, Komal Pandey, Maarten van Es, Rik Jonckheere
Publié dans: Photomask Technology 2024, 2024
Éditeur: SPIE
DOI: 10.1117/12.3032757

Critical In-Line OCD Metrology for CFET Manufacturing

Auteurs: NOVA: Joey Hung, Adam Michal Urbanowicz, Ronen Urenski, Igor Turovets, Avron Ger; IMEC: Hyukyun Kwon, Thomas Tseng, Mohamed Saib, Janusz Bogdanowicz, Stephanie Melhem, Daisy Zhou, Yong Kong Siew, Debashish Basu, Anne-Laure Charley, Jason Reifsnider
Publié dans: “ SPIE Advanced Lithography + Patterning [conference], 2025
Éditeur: SPIE

Opportunities of polarization-resolved EUV scatterometry on photomasks

Auteurs: Victor Soltwisch, Till Biskup, Michael Kolbe, Frank Scholze
Publié dans: 38th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2023), 2023
Éditeur: SPIE
DOI: 10.1117/12.2675921

EUV Source Metrology Using Transmissive and Diffractive Optics

Auteurs: Muharrem Bayraktar
Publié dans: 2024 Source Workshop, 2024
Éditeur: EUV Litho Inc.