14 Anstrom CMOS IC technology

Informacje na temat projektu

14ACMOS

Identyfikator umowy o grant: 101096772

DOI

10.3030/101096772

Data podpisania przez KE 27 Listopada 2022

Data rozpoczęcia 1 Grudnia 2022

Data zakończenia 30 Listopada 2025

Finansowanie w ramach

• Digital, Industry and Space

Koszt całkowity

€ 94 640 401,81

Wkład UE

€ 21 859 931,81

Koordynowany przez

ASML NETHERLANDS B.V.
Netherlands

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Publikacje

Other (1)

RGA developments at TNO

Autorzy: Koops R.
Opublikowane w: EVC-17, 2024
Wydawca: 17th European Vacuum Conference (EVC-17)

Peer reviewed articles (3)

Machine Learning‐Accelerated Reconstruction of Periodic Nanostructures with X‐ray Fluorescence Spectroscopy Methods

Autorzy: Vinh‐Binh Truong, Analía Fernández Herrero, Kas Andrle, Victor Soltwisch, Philipp Hönicke
Opublikowane w: Advanced Materials Interfaces, Numer 12, 2025, ISSN 2196-7350
Wydawca: Wiley
DOI: 10.1002/ADMI.202400898

Hybrid approach to reconstruct nanoscale grating dimensions using scattering and fluorescence with soft X-rays

Autorzy: Leonhard M. Lohr, Richard Ciesielski, Vinh-Binh Truong, Victor Soltwisch
Opublikowane w: Nanoscale, Numer 17, 2025, ISSN 2040-3364
Wydawca: Royal Society of Chemistry (RSC)
DOI: 10.1039/D4NR04580G

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

Autorzy: I.-Y. Liu; L. Van Winckel; L. Boakes; M. Garcia Bardon; C. Rolin; L.-Å. Ragnarsson
Opublikowane w: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 2024, ISSN 0894-6507
Wydawca: IEEE
DOI: 10.1109/TSM.2024.3408926

Conference proceedings (5)

Soft x-ray reflectometry for the inspection of interlayer roughness in stacked thin film structures

Autorzy: Richard Ciesielski, Roger Loo, Yosuke Shimura, Janusz Bogdanowicz, Antonio Mani, Christoph Mitterbauer, Vinh-Binh Truong, Michael Kolbe, Victor Soltwisch
Opublikowane w: Metrology, Inspection, and Process Control XXXVIII, 2024
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.3009953

Novel metrology for mask degradation: IR-AFM, XPS depth profiling and HAXPES

Autorzy: Véronique de Rooij, Shriparna Mukherjee, Chien-Ching Wu, Rob P. Ebeling, Komal Pandey, Maarten van Es, Rik Jonckheere
Opublikowane w: Photomask Technology 2024, 2024
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.3032757

Critical In-Line OCD Metrology for CFET Manufacturing

Autorzy: NOVA: Joey Hung, Adam Michal Urbanowicz, Ronen Urenski, Igor Turovets, Avron Ger; IMEC: Hyukyun Kwon, Thomas Tseng, Mohamed Saib, Janusz Bogdanowicz, Stephanie Melhem, Daisy Zhou, Yong Kong Siew, Debashish Basu, Anne-Laure Charley, Jason Reifsnider
Opublikowane w: “ SPIE Advanced Lithography + Patterning [conference], 2025
Wydawca: SPIE

Opportunities of polarization-resolved EUV scatterometry on photomasks

Autorzy: Victor Soltwisch, Till Biskup, Michael Kolbe, Frank Scholze
Opublikowane w: 38th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2023), 2023
Wydawca: SPIE
DOI: 10.1117/12.2675921

EUV Source Metrology Using Transmissive and Diffractive Optics

Autorzy: Muharrem Bayraktar
Opublikowane w: 2024 Source Workshop, 2024
Wydawca: EUV Litho Inc.