Objectif
The work covered by the DRYDEL project aimed to develop a deep-UV sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the DESIRE (Diffusion-Enhanced Silylating Resist) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single-layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and anisotropic dry development.
The work covered by the dry develop optical lithography (DRYDEL) project aimed to develop a deep ultraviolet (UV) sensitive photoresist and the associated processing, with the objective of extending the diffusion enhanced silylating resist (DESIRE) process down to the 0.3 micron range. The DESIRE process is a single layer resist system based on surface imaging resulting from selective silylation and and anisotropic dry development. The work was distributed over 4 work packages. In the first, the resist materials were developed. Variations of the various components of the resist (photoactive compound, resin composition and solvents) have been investigated. This has led to an optimization of the i-line version of the resist (for exposure at 365 nm) and to the fabrication of first samples of the deep UV version (for exposure at 248 nm).
In the second work package resist processing, such as silylation, dry development and pattern transfer, has been studied. Besides an optimization of each processing step, some more fundamental studies were carried out on silylation kinetics and swelling behaviour. Several new pieces of equipment were evaluated for silylation and dry development (including magnetically enhanced reactors and electron cyclotron resonance (ECR). Using the optimized resist materials and processes, lithographic resolution down to 0.25 micron (lines/spaces) has been demonstrated with perfect line width control over highly reflective topography (on deep-UV stepper, lambda = 248 nm, numerical operture (NA) = 0.42). The process was demonstrated in the third work package. A final work package showed the feasibility of the DESIRE process for application in gallium arsenide processing. The lift off capabilities of the process were demonstrated by the fabrication of appropriate test circuits.
Champ scientifique (EuroSciVoc)
CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.
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- sciences naturelles sciences physiques physique théorique physique des particules accélérateur de particules
- sciences naturelles sciences physiques astronomie science planétaire géologie planétaire
- sciences naturelles sciences chimiques chimie inorganique métal pauvre
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Programme(s)
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Thème(s)
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Données non disponibles
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Appel à propositions
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Données non disponibles
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Régime de financement
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Données non disponibles
Coordinateur
3030 Heverlee
Belgique
Les coûts totaux encourus par l’organisation concernée pour participer au projet, y compris les coûts directs et indirects. Ce montant est un sous-ensemble du budget global du projet.